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韩媒:日本若扩大限制名单,将会威胁三星EUV工程

2019-07-12来源: 爱集微关键字:三星  EUV

日本出台对韩限制出口政策引发韩国企业跳脚,《韩联社》更进一步指出,由日本独占市场的光罩基底(Mask Blank)可能成为下一个牺牲品,外界担忧,三星电子EUV工程(极紫外光)可能因此受冲击。

据《韩联社》报道,日本可能增加的限制品项包含集成电路(IC)、电源管理IC(PMIC)、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。如果日本增加出口限制项目,新增的项目也得取得个别许可,需耗费90天左右的审查时间。

值得注意的是,除EUV制程用的光刻胶没有其他替代品,日本企业在晶圆、光罩基底市场中,市占率非常高。光罩基底是曝光工程中光掩模的原料,在半导体微细化工程中极具重要性。业界认为,三星电子主力的EUV工程属于微细工程的新一代技术,韩国生产的光罩基底仍无法取代日本制的产品。

NH投资证券研究员都贤宇(音译)分析,EUV工程用的光罩基底目前由豪雅(HOYA)独家生产,韩国企业S-Tech虽然也有生产光罩基底,但技术力仍有些不足。

以光刻胶来说,虽然工程中有许多种类和层次,但核心部分是使用技术领先的日本制产品。EUV用光刻胶由JSR、信越化学工业等日本企业提供,韩国Dongjin Semichem等企业仍在开发相关产品中。

都贤宇指出,目前EUV工程中的原料,只有光刻胶被限制出口,但EUV工程尚未进入量产阶段。这也代表,即使原料中断供应,短期也只会影响示范生产线,问题是,华城的EUV生产线将于明年1月进入量产。

业界相关人士认为,三星电子核心产业之一是系统半导体,EUV则是引领该产业的技术,若日韩关系持续恶化,韩国半导体的未来堪忧。除此之外,台积电、英特尔等竞争企业也在积极发展EUV工程,外界担忧,情况若恶化,三星电子恐怕要让出业界领头羊的位置。


关键字:三星  EUV

编辑:北极风 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/xfdz/ic467640.html
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