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南大光电投建193nm光刻胶项目,一期总投资9.6亿元

2018-01-13来源: 集微网 关键字:南大光电

集微网消息,1月12日晚间,南大光电发布公告,公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订《投资协议书》,公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,项目总用地面积约86亩,其中一期总投资预计约9.6亿元。

对于签订此次投资协议的原因,南大光电表示,是为了抢抓机遇,加快项目进度,落实公司长期发展战略,利用自身优势,推动中国高端光刻胶产业的快速发展。

目前整个PCB电路板市场缺货涨价,且已旷日持久。业内人士在接受集微网采访时表示,目前PCB市场自去年以来,受多方原因,整体涨价幅度在20-30%,其中光刻胶材料也在同步涨价,尤其是高端光刻胶材料因PCB工艺的升级,所需更大。 

南大光电表示,公司拟实施高端集成电路制造用 193nm 光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,目前处于研发阶段。而一旦此次签署的投建项目落地,达产后年产值预计约 3.75 亿元,将对南大光电的产品升级和市场营收带来直接的效率。


关键字:南大光电

编辑:北极风 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/xfdz/article_2018011379508.html
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