Molex子公司Polymicro改进用于深紫外线的FDP光纤产品

2013-09-18 15:35:33来源: EEWORLD

    (新加坡 –  2013年9月18日) 全球领先的全套互连产品供应商Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纤产品,最新的性能提升改进了光纤产品在深紫外线应用(190nm - 325nm)中的曝晒。

    Polymicro Technologies全球产品经理Teodor Tichindelean表示:“推出光纤FDP革新性紫外线应用,让我们很高兴为客户带来具有更好品质的增强型FDP光纤产品,用于耐受紫外线曝晒。”
    
    Polymicro公司的silica内芯FDP光纤具有超高紫外线传输和超低紫外线曝晒特性,具有出色的耐辐射能力。在低至190nm条件下运作,并且具有出色的深紫外线耐曝晒特性,FDP光纤已经成为深紫外线领域应用的首选光纤产品。新型FDP光纤提供了更好的耐曝晒性能,来维持更长的传输时间,同时最大限度地减少对光纤的损坏。

    对于深紫外线领域应用,高水平紫外线辐射的影响会引起光纤传输退化,光纤传输通常在数小时后发生损耗。

    Tichindelean补充道:“与先前的产品型款相比,改进的FDP光纤在初始退化之后可将光输出提高大约10%。对于Polymicro客户,这可以转化为更好的光发射和更长的产品寿命。”
    

关键字:molex  子公司  公司  改进

编辑:冯超 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/wltx/2013/0918/article_11811.html
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