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EUV

极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的软x 射线。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 光刻技术是现代集成电路设计上一个最大的瓶颈。现cpu使用的45nm、32nm工艺都是由193nm液浸式光刻系统来实现的,但是因受到波长的影响还在这个技术上有所突破是十分困难的,但是如采用 EUV光刻技术就会很好的解决此问题,很可能会使该领域带来一次飞跃。 但是涉及到生产成本问题,由于193纳米光刻是目前能力最强且最成熟的技术,能够满足精确度和成本要求,所以其工艺的延伸性非常强,很难被取代。因而在2011年国际固态电路会议 (ISSCC2011)上也提到,在光刻技术方面,22/20nm节点主要几家芯片厂商也将继续使用基于193nm液浸式光刻系统的双重成像(double patterning)技术。

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ASML第二季度EUV销量超预期,中芯新增一台订单
2018年7月18日,ASML公布了2018年第二季度业绩报告。报告指出,第二季度销售额为27.4亿欧元,净利润为5.84亿欧元,毛利率达到43.3%。ASML CEO Peter Wennink表示,第二季度的销售额高于预期,主要是因为预计的EUV的销量高于预期。此外,第二季度的毛利率也高于ASML的预期,这也进一步表明了EUV强大的盈利能力。ASML曾表示计划在今年出货...
类别:半导体生产 2018-07-19 标签: ASML EUV
7LPP (7nm Low Power Plus)三星将在7LPP工艺上首次应用EUV极紫外光刻技术,预计今年下半年投产。关键IP正在研发中,2019年上半年完成。采用Fusion技术的新思科技Design      Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备...
类别:半导体生产 2018-07-05 标签: Fusion 7LPP EUV 新思科技
EUV、3nm、GAA首次亮相,三星晶圆代工业务强势进军中国市场
成果,以及未来发展路线图和服务,首次发布了FinFET、GAA等晶体管构造与EUV曝光技术的使用计划,以及3纳米芯片高端工艺的发展路线图,并提出合作方案,以促进半导体业界实现美好愿景和共同发展。据介绍,三星晶圆代工业务不仅在eFlash/PMIC/DDI/CIS/RF/IoT等产品定制型8英寸特种工艺和高端工艺等多个领域占据领先地位,还打造了具备实力的晶圆代工生态系统,包括IP...
类别:综合资讯 2018-06-15 标签: EUV
联发科高分贝宣布旗下首款5G Modem芯片,代号为曦力(Helio)M70的芯片解决方案将在2019年现身市场的动作,台面上或是为公司将积极进军全球5G芯片市场作热身,但台面下,已决定采用台积电7纳米EUV制程技术设计量产的M70 5G Modem芯片解决方案,却是联发科为卡位台积电最新主力7纳米制程技术产能,同时向苹果(Apple)iPhone订单招手的关键大绝,在高通...
类别:半导体生产 2018-06-07 标签: 5G芯片
登受惠两岸12英寸厂晶圆新产能开出,12英寸前开式晶圆传送盒(300mm FOUP)大单陆续落袋,加上极紫外光光罩盒(EUV POD)已获ASML认证,第2季少量出货,下半年陆续放量,业绩可望逐季回升,全年应可缴出获利成绩,2019年业绩跃升可期。 2009年获英特尔投资的家登,主要业务包括光罩与晶圆传载解决方案,目前光罩解决方案占营收比重逾5成,在全球市场最主要...
类别:半导体生产 2018-05-30 标签: 台积电
,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。  由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球各地包括大陆客户一视同仁,对大陆晶圆...
类别:综合资讯 2018-05-24 标签: 长江存储 中芯国际
EUV能成就中国芯之梦吗?
,长江存储从ASML订购的一台光刻机已抵达武汉,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球...
类别:综合资讯 2018-05-24 标签: 芯片 高端芯片 光刻机
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻技术...
类别:半导体生产 2018-05-24 标签: 7nm处理器
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻技术...
类别:半导体生产 2018-05-24 标签: 7nm
,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。  由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球各地包括大陆客户一视同仁,对大陆晶圆...
类别:综合资讯 2018-05-23 标签: 长江存储 中芯国际

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预估未来10到20年,半导体产业成长幅度会比全球GDP成长率高出200到300基点,整体半导体业产值年成长率将达到5-6%;虽然各项技术仍会面临盛衰,但未来创新的空间还是很大。 未来半导体业的创新技术,包含2.5D与3D IC封装技术、极紫外光(EUV)微影制程技术、人工智慧(AI)、机器学习芯片(GPU、TPU)、芯片架构、C-tube和石墨烯等新材料等。 过去半导体产业发展,业界共有十大...
0次浏览 2018-09-18 信息发布

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在设备更高的单价上,如中芯国际向ASML购买的最新EUV光刻机一台就需要1.2亿美元;另一方面,随着工艺升级,多次曝光逐步取代单次曝光,另外在刻蚀机、清洗机等设备的数量和使用频率也将越来越高,这将反映在设备订单数量的提高。根据SEMI测算,2018年晶圆处理设备的份额将从17年的80.5%上升到81.8%。 半导体市场回暖,单晶圆清洗机占据市场主流...
101次浏览 2018-08-31 信息发布

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式存储器eRRAM技术等。 台积电昨天董事会也决议核准约新台币1,364亿元资本支出,内容包括兴建厂房,建置、扩充及升级先进制程产能等,以及第四季研发资本预算与经常性资本预算。 台积电明年超大电子元器件采购网投资案,就是在南科兴建的5nm12英寸晶圆厂Fab 18,该厂总投资额达250亿美元。台积电7nm已全面量产,支援极紫外光(EUV)技术的7+nm已完成研发,将在明年量产。至于再下一个世代...
0次浏览 2018-08-15 信息发布

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,iVBORw0KGgoAAAANSUhEUgAAAv4AAAIPCAIAAACEyU1SAAAgAElEQVR4Aey9B7QkZ3UuWrm6uqtzPvmcOWeyZkajjAIggkhCYGNMssGAsbHBvg8wvuAI1xhwwNc2XLxI1wEcnm2CSAIhIc1IGkmjyXnOnHxO51g51/3+OgK/Zd/l57veWn6wVpdGfbor/rWruvdX3/723vS1o39FjaaRBUYWGFngR94CnufRNE1RdBD4VPQuCAK8CYMQs0OMPwyjV/wNsBo+kdUpyg8CGh9...
6449次浏览 2018-08-01 【stm32/stm8】

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全球IC采购网报道:台积电明年上半年将独步同业,成为全世界第一家采用最先进的极紫外光(EUV)微影设备完成量产的晶圆代工厂,助攻台积电横扫全球多数第五代行动通讯(5G)及人工智慧(AI)关键芯片订单,稳坐全球晶圆代工龙头宝座。 台积电董事长魏哲家证实,台积电导入EUV的7 纳米强化版(7+)将于明年第2季量产,是全球首家采用EUV为客户量产芯片的晶圆代工厂。 EUV透过高能量、波长...
0次浏览 2018-07-23 信息发布

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监测系统的检测极限。此外,无论是193i还是EUV,缺陷检测领域的第二个关键是如何可靠地检测到光刻工艺早期所引入的良率损失缺陷。我们的研发团队开发出两种新的缺陷检测系统——一种用于无图案/监控晶圆,一种用于图案化晶圆——为工程师快速并准确地解决这些难题提供了关键助力。” Surfscan SP无图案晶圆缺陷检测系统采用实质性创新的光源和传感器架构,并实现了足以改变行业面貌的灵敏度,其分辨率与前一代市场...
101次浏览 2018-07-11 综合技术交流

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        采用Fusion技术的新思科技Design Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。     为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler? Graphical RTL综合,IC Compiler? II 布局和布线...
404次浏览 2018-07-06 信息发布

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新思科技Fusion技术助力三星7LPP EUV工艺降低功耗、缩小面积并提高性能 重点: 采用Fusion技术的新思科技Design     Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler® Graphical...
707次浏览 2018-07-05 PCB设计

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环节的23%、30%、25%。光刻机作为半导体芯片最核心设备,技术难度高、价格在2000万美金以上,高端领域被荷兰ASML垄断,市场份额高达80%,最新出的EUV光刻机可用于试产7nm制程,可达3-4亿美元。   全球晶圆代工厂台积电、三星、英特尔展开20nm以下制程工艺竞赛的今天,我国的技术领先光刻机仅能用来加工90nm芯片!   国家政策和资金扶持持续加码   从2014年开始,国家...
303次浏览 2018-05-31 信息发布

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,7纳米在2017年初完成技术验证,5纳米会导入极紫外光(EUV)微影技术。   再者,台积电也配合整合型扇出(InFO)封装技术,已经被苹果(Apple)采用,更成功开发出新一代的InFO解决方案技术,预计今年开始量产。另外,台积电也扩展中介层CoWoS技术到16纳米制程,且整合多个第二代高频宽存储器(HBM2)和绘图处理器的高端加速器,目的是支持人工智能(AI)和深度学习需要的高效能运算...
1919次浏览 2018-05-28 信息发布

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IBM世界首款7nm芯片展示
这款测试芯片首度在7nm晶体管内加入一种叫做“硅锗”(silicon germanium,简称 SiGe)的材料,替代原有的纯硅,并采用了极紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV)微影技术。据悉,相较10nm,使用7nm制程后的面积将所缩小近一半,但同时因为能容纳更多的晶体管(200...
2015-09-10 标签: 7nm IBM 硅锗 SiGe EUV

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