EUV

极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的软x 射线。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 光刻技术是现代集成电路设计上一个最大的瓶颈。现cpu使用的45nm、32nm工艺都是由193nm液浸式光刻系统来实现的,但是因受到波长的影响还在这个技术上有所突破是十分困难的,但是如采用 EUV光刻技术就会很好的解决此问题,很可能会使该领域带来一次飞跃。 但是涉及到生产成本问题,由于193纳米光刻是目前能力最强且最成熟的技术,能够满足精确度和成本要求,所以其工艺的延伸性非常强,很难被取代。因而在2011年国际固态电路会议 (ISSCC2011)上也提到,在光刻技术方面,22/20nm节点主要几家芯片厂商也将继续使用基于193nm液浸式光刻系统的双重成像(double patterning)技术。

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7LPP (7nm Low Power Plus)三星将在7LPP工艺上首次应用EUV极紫外光刻技术,预计今年下半年投产。关键IP正在研发中,2019年上半年完成。采用Fusion技术的新思科技Design      Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备...
类别:半导体生产 2018-07-05 10:44:41 标签: Fusion 7LPP EUV 新思科技
EUV、3nm、GAA首次亮相,三星晶圆代工业务强势进军中国市场
成果,以及未来发展路线图和服务,首次发布了FinFET、GAA等晶体管构造与EUV曝光技术的使用计划,以及3纳米芯片高端工艺的发展路线图,并提出合作方案,以促进半导体业界实现美好愿景和共同发展。据介绍,三星晶圆代工业务不仅在eFlash/PMIC/DDI/CIS/RF/IoT等产品定制型8英寸特种工艺和高端工艺等多个领域占据领先地位,还打造了具备实力的晶圆代工生态系统,包括IP...
类别:综合资讯 2018-06-15 08:25:23 标签: EUV
联发科高分贝宣布旗下首款5G Modem芯片,代号为曦力(Helio)M70的芯片解决方案将在2019年现身市场的动作,台面上或是为公司将积极进军全球5G芯片市场作热身,但台面下,已决定采用台积电7纳米EUV制程技术设计量产的M70 5G Modem芯片解决方案,却是联发科为卡位台积电最新主力7纳米制程技术产能,同时向苹果(Apple)iPhone订单招手的关键大绝,在高通...
类别:半导体生产 2018-06-07 21:06:43 标签: 5G芯片
登受惠两岸12英寸厂晶圆新产能开出,12英寸前开式晶圆传送盒(300mm FOUP)大单陆续落袋,加上极紫外光光罩盒(EUV POD)已获ASML认证,第2季少量出货,下半年陆续放量,业绩可望逐季回升,全年应可缴出获利成绩,2019年业绩跃升可期。 2009年获英特尔投资的家登,主要业务包括光罩与晶圆传载解决方案,目前光罩解决方案占营收比重逾5成,在全球市场最主要...
类别:半导体生产 2018-05-30 20:19:31 标签: 台积电
,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。  由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球各地包括大陆客户一视同仁,对大陆晶圆...
类别:综合资讯 2018-05-24 21:07:05 标签: 长江存储 中芯国际
EUV能成就中国芯之梦吗?
,长江存储从ASML订购的一台光刻机已抵达武汉,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球...
类别:综合资讯 2018-05-24 20:44:21 标签: 芯片 高端芯片 光刻机
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻技术...
类别:半导体生产 2018-05-24 08:51:42 标签: 7nm处理器
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻技术...
类别:半导体生产 2018-05-24 08:44:36 标签: 7nm
,这台光刻机价值7,200万美元。此外,外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机,预计于2019年初交货。  由于国际间有个“瓦圣纳协定”,该协定禁止向非缔约国出售敏感性高科技技术,其中包括向大陆出售高端光刻机技术,前述两笔交易因而引人注目。但报导指,ASML发言人向日经新闻驳斥该传闻,表示该公司对全球各地包括大陆客户一视同仁,对大陆晶圆...
类别:综合资讯 2018-05-23 20:21:56 标签: 长江存储 中芯国际
中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机 如何躲过《瓦森纳协定》的?
  据《日经亚洲评论》(Nikkei Asian Review)15日援引消息人士的话称,中国芯片加工企业中芯国际(SMIC)向全球最大的芯片设备制造商——荷兰ASML订购了首台最先进的EUV(极紫外线)光刻机,价值1.2亿美元。目前,业内已达成共识,必须使用EUV光刻机才能使半导体芯片进入7nm,甚至5nm时代。今天,中芯国际方面对观察者网表示,对此事不做评论。下面...
类别:综合资讯 2018-05-21 16:57:06 标签: 中芯 EUV

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监测系统的检测极限。此外,无论是193i还是EUV,缺陷检测领域的第二个关键是如何可靠地检测到光刻工艺早期所引入的良率损失缺陷。我们的研发团队开发出两种新的缺陷检测系统——一种用于无图案/监控晶圆,一种用于图案化晶圆——为工程师快速并准确地解决这些难题提供了关键助力。” Surfscan SP无图案晶圆缺陷检测系统采用实质性创新的光源和传感器架构,并实现了足以改变行业面貌的灵敏度,其分辨率与前一代市场...
0次浏览 2018-07-11 综合技术交流

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        采用Fusion技术的新思科技Design Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。     为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler? Graphical RTL综合,IC Compiler? II 布局和布线...
404次浏览 2018-07-06 信息发布

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新思科技Fusion技术助力三星7LPP EUV工艺降低功耗、缩小面积并提高性能 重点: 采用Fusion技术的新思科技Design     Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler® Graphical...
707次浏览 2018-07-05 PCB设计

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环节的23%、30%、25%。光刻机作为半导体芯片最核心设备,技术难度高、价格在2000万美金以上,高端领域被荷兰ASML垄断,市场份额高达80%,最新出的EUV光刻机可用于试产7nm制程,可达3-4亿美元。   全球晶圆代工厂台积电、三星、英特尔展开20nm以下制程工艺竞赛的今天,我国的技术领先光刻机仅能用来加工90nm芯片!   国家政策和资金扶持持续加码   从2014年开始,国家...
202次浏览 2018-05-31 信息发布

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,7纳米在2017年初完成技术验证,5纳米会导入极紫外光(EUV)微影技术。   再者,台积电也配合整合型扇出(InFO)封装技术,已经被苹果(Apple)采用,更成功开发出新一代的InFO解决方案技术,预计今年开始量产。另外,台积电也扩展中介层CoWoS技术到16纳米制程,且整合多个第二代高频宽存储器(HBM2)和绘图处理器的高端加速器,目的是支持人工智能(AI)和深度学习需要的高效能运算...
1818次浏览 2018-05-28 信息发布

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时间。 在10nm工艺上,台积电于2017年初投产,而三星则赶在2016年10月投产,再次取得领先优势;同样的在当前的7nm工艺上三星再次采取了激进策略,引入先进的EUV技术预计在今年下半年投产,而台积电继续采取稳健策略先研发7nm工艺在今年初投产然后到明年引入EUV技术,这再次让三星取得领先的制程工艺优势。 三星的制程工艺领先优势很可能将延续到下一代的5nm工艺上,分析认为三星率先在7nm工艺上引入...
202次浏览 2018-05-25 信息发布

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、高性能计算、汽车和服务器将会有超过50个版本。预计7nm技术具有与其前代28nm / 16nm节点类似的长寿命。从浸入到EUV缩放和更密集的标准单元架构的迁移组合使整体显着提升。 EUV采用和N7 +流程节点 Woo博士分享了N7 +上EUV应用程序的一些进展。EUV适用于选定的图层,降低了工艺复杂性并增强了图案的保真度。它还支持未来的技术扩展,同时提供更好的性能、良率和更短的周期时间。Woo博士表示...
202次浏览 2018-05-14 信息发布

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进行产品设计研发。Synopsys设计平台在获得TSMC的此项认证后,将可以更加广泛地用于基于此工艺技术的芯片设计,包括高性能、高密度计算和低功耗移动应用。 该认证意味着TSMC极紫外光刻(EUV)工艺取得显著进步。与非EUV工艺节点相比,前者的晶片面积显著减少,但仍保持卓越的性能。 以Design Compiler? Graphical综合工具和IC Compiler?II布局布线工具为核心...
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行业,绝大多数企业为芯片设计公司,他们需要把芯片制造业务外包给台积电、中芯国际、联华电子这样的半导体代工厂。三星电子设计生产自家的大量芯片,近年来也开始承接外部公司的代工业务。     据报道,这家芯片厂采用了先进的EUV工艺,能够制造7纳米线宽的芯片,一些专家预测,EUV工艺未来还能够生产5纳米芯片。     所谓的5纳米和7纳米,指的是半导体的线宽...
101次浏览 2018-02-26 信息发布

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在STSP有超过1万名员工,Fab 18全部完工后可提供超过1.4万个工作岗位。     台积电5nm FinFET工艺同时针对高性能计算和移动应用优化,首次引入EUV极紫外光刻,减少多重曝光的复杂性,并能更好地缩小芯片面积。     台积电还重申,3nm工厂未来不会前往美国。     按照张忠谋此前说法,台积电将在2020年开工建设...
101次浏览 2018-01-30 信息发布

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IBM世界首款7nm芯片展示
这款测试芯片首度在7nm晶体管内加入一种叫做“硅锗”(silicon germanium,简称 SiGe)的材料,替代原有的纯硅,并采用了极紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV)微影技术。据悉,相较10nm,使用7nm制程后的面积将所缩小近一半,但同时因为能容纳更多的晶体管(200...
2015-09-10 标签: 7nm IBM 硅锗 SiGe EUV

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