3nm

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摩尔定律能“活”到2025年以后 中国半导体赶超有望

摩尔定律能“活”到2025年以后 中国半导体赶超有望

应用,功耗在毫瓦量级,根据功耗、性能,晶圆片上的节点大概28nm就足够了,不一定微缩到5nm、3nm。但从移动通讯市场来看,目前华为、中兴等领先企业已经把手机芯片做到16nm,并且量产,现在正在做7nm的量产。这说明,如果做手机芯片一定还要沿着摩尔定律继续往前走。摩尔定律将持续发展到2025年之后丁辉文指出,每当摩尔定律走到一个难走状态,就会出现一些新技术突破。比如,目前出现...

类别:市场动态 2017-06-28 10:14:13 标签: 摩尔定律 半导体

高通总裁:Intel在10nm上已明显落后

处理器制程发展,阿伯利强调目前仍维持与三星、台积电等厂商合作,同时也强调相信摩尔定律的技术演进模式,只是在往更小制程推演部分确实面临更大成本、资源投入等挑战,但预期最终仍可顺利以更小制程满足更多新产品设计需求,甚至让服务器使用处理器也能藉由更小制程对应长时间运作与节电使用需求。如同先前在Computex 2017期间认为将比竞争对手更快进入接下来的7nm,甚至5nm、3nm制程...

类别:半导体生产 2017-06-24 19:50:39 标签: 高通 intel 10nm

SEMI:5月半导体设备出货创新高

,一路从10nm打到7nm、5nm、甚至3nm。...

类别:综合资讯 2017-06-17 20:20:08 标签: SEMI 半导体设备

SEMI:5月半导体设备出货创新高

,一路从10nm打到7nm、5nm、甚至3nm。...

类别:综合资讯 2017-06-17 08:12:19 标签: 半导体设备

台积电开始测试7nm工艺 为iPhone 9做准备

。而除了10nm和7nm工艺,台积电目前还在研发更先进的5nm和3nm工艺,台积电联合CEO魏哲家此前曾表示2016年的研发支出为22亿美元,占2016年全年收入的比重超过了7.4%,有5400名工程师在研发新工艺。...

类别:半导体生产 2017-06-01 20:45:23 标签: 台积电 7nm iphone9

原子极限不远了?14埃米或成其终点

原子极限不远了?14埃米或成其终点

生在5nm甚至3nm节点,而纳米线晶体管也将在此过程中出现。如今,14埃米节点还只是出现在PPT上的一个希望 (来源:Imec)Steegen表示:“从事硬件开发工作的人员越来越有信心,相信EUV将在2020年初准备好投入商用化。经过这么多年的努力,这一切看来正稳定地发展中。”Imec是率先安装原型EUV系统的公司,至今仍在鲁汶(Leuven)附近大学校园旁的研究实验室中持续该...

类别:市场动态 2017-05-26 17:50:31 标签: 原子极限 纳米 埃米

埃米时代不远了?Imec擘划先进制程蓝图

,工程师们可能得开始在相同的芯片上混合鳍式场效电晶体(FinFET)和奈米线或穿隧FET或自旋波电晶体。他们将会开始尝试更多类型的存储器,而且还可能为新型的非冯·诺依曼电脑(non-Von Neumann)提供芯片。短期来看,Steegen认为业界将在7nm采用极紫外光(EUV)微影技术、FinFET则发生在5nm甚至3nm节点,而奈米线电晶体也将在此过程中出现。Steegen表示...

类别:半导体生产 2017-05-24 20:39:20 标签: Imec

通道微缩与存储器

如果EUV一再延迟,芯片制造商将会调整单元库来缩小芯片。Imec正致力于开发一个3轨(3-track)的单元库,这是将芯片制造商目前用于10nm先进制程的7-track单元库缩小了0.52倍。其折衷之处在于它能实现3nm节点,但仅为每单元1个FinFET保留空间,较目前每单元3个FinFET减少了。此外,随着单元轨缩小,除了从7nm节点开始的挑战,预计工程师还将面对新的设计...

类别:半导体生产 2017-05-23 21:09:23 标签: 存储器

选择抗蚀剂与电晶体

,而如果导入EUV的情况顺利,甚至可沿用至3nm节点。Steegen说:“在3nm节点,FinFET和奈米线的效果能几乎一样好,但奈米线闸极间距带来了更多的微缩,”他并展示一项堆叠8根奈米线的研究。详细观察阻抗剂的问题显示,使用化学助剂和不使用化学助剂(CAR和NCAR)的研究结果。LWR/LCDU是指线边粗糙度的测量值应不超过特征间距尺寸的十分之一,图中的范围约为3.2至...

类别:半导体生产 2017-05-23 21:08:26 标签: 电晶体

埃米时代不远了?Imec擘划先进制程蓝图

,工程师们可能得开始在相同的芯片上混合鳍式场效电晶体(FinFET)和奈米线或穿隧FET或自旋波电晶体。他们将会开始尝试更多类型的存储器,而且还可能为新型的非冯·诺依曼电脑(non-Von Neumann)提供芯片。短期来看,Steegen认为业界将在7nm采用极紫外光(EUV)微影技术、FinFET则发生在5nm甚至3nm节点,而奈米线电晶体也将在此过程中出现。Steegen表示...

类别:半导体生产 2017-05-23 21:07:21 标签: Imec

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