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紫外光

在电子工程世界为您找到如下关于“紫外光”的新闻

台积电7nm+工艺升级,采用极紫外光(EUV)微影技术
晶圆代工龙头台积电持续冲刺先进制程,采用极紫外光(EUV)微影技术的首款7+纳米芯片已经完成设计定案(tape-out),支援最多4层EUV光罩。台积电亦加速5纳米制程推进,预计明年4月可开始进行风险试产,支援的EUV光罩层将上看14层,5纳米可望如期在2020年上半年进入量产。设备业者认为,台积电在晶圆先进制程持续推进,也推出可整合多种异质芯片的先进封装技术,最大竞争对手...
类别:半导体生产 2018-10-08 标签: 台积电 EUV
近日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意该项...
类别:半导体生产 2018-06-04 标签: 极紫外光刻胶
  5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家...
类别:综合资讯 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意...
类别:半导体生产 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
全球首次极紫外光刻!三星7nm提前半年完工:抢骁龙855
第一季度已投产,将代工华为麒麟980,还有消息称一并收获了苹果A12、高通骁龙855。三星因为在7nm上投入了技术更先进、但难度极高的EUV极紫外光刻,而且是全球第一个,原本预计要到今年下半年才能完成,没想到提前了足足半年。受此鼓舞,高通已经将新的芯片样品送交三星进行测试,不知道是不是骁龙855。在此之前,三星已经宣布7nm工艺已经赢得了高通5G芯片的订单,只要进展顺利再获...
类别:消费电子 2018-04-16 标签: 三星 7nm 极紫外光刻
格罗方德为下一代芯片制造准备 极紫外光刻工艺
Leading Performance 制程(7LP)会是格罗方德冲刺下一个极限的重心,最终有望在大规模半导体产品制造上使用极紫外光刻技术(EUV)。格罗方德 Fab 8 工厂大门尽管半导体行业畅想 EUV 技术很多年,但实际应用中的挑战让业界不得一次次推迟它的部署。当前市面上仅有 ASML 一家公司在摸索中提供设备,因此其这项技术的命运取决于 ASML 能否克服跨紫外线和 X 射线界限...
类别:市场动态 2018-03-08 标签: 格罗方德 极紫外
三星推出新工艺,7nm工艺将上EUV极紫外光刻
Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。三星11LPP工艺不是全新的,而是14nm、10nm的融合,一方面采用10nm BEOL...
类别:综合资讯 2017-10-09 标签: 7nm EUV
三星宣布11nm新工艺:7nm全面上极紫外光刻
  Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。下面就随网络通信小编一起来了解一下相关内容吧。  今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。   三星宣布...
类别:综合资讯 2017-10-09 标签: 三星 11nm
三星宣布11nm新工艺:7nm全面上极紫外光刻
Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。三星11LPP工艺不是全新的,而是14nm、10nm的融合,一方面采用10nm BEOL...
类别:消费电子 2017-10-07 标签: 三星 11nm 7nm 极紫外光刻
三星宣布11nm新工艺:7nm全面上极紫外光刻
Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。三星11LPP工艺不是全新的,而是14nm、10nm的融合,一方面采用10nm BEOL...
类别:消费电子 2017-09-30 标签: 三星 11nm 7nm

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紫外光由于具有口盲特点而使其在通信方面有着特殊的的必要性及优越性,紫外光的调制与接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要区别点;介绍了,紫外光通信系统的构成原理并着晕讲解了紫外光通信系统中的关键装置—— 语音编码一解码和紫外光的调制与接收;提出了一种较好的紫外光通迅模式,为现代作战单元无线指控数据链和指挥所无线局域网的短距离紫外光通信的进一步发展提供了借鉴。紫外通信系统具有许多其它常规通讯方式...
类别:射频 2013年09月18日 标签: 紫外光通信系统关键技术研究
介绍了紫外光通信特点和信道模型,以LED为光源、光电倍增管为光接收器设计无线紫外光数字通信系统方案,研制了无线紫外光通信设备样机,在不同条件下进行实验。实验结果表明,在夜晚,晴天,近距离,校准条件下的通信效果优于白天,下雨,远距离,未校准的条件下的通信效果,验证了无线紫外光通信的可行性。...
类别:射频 2013年09月22日 标签: LED 无线 通信系统 紫外光
紫外无线通信是一种新型通信方式,为实现紫外无线通信系统关键光器件选型的目的,依据日盲紫外光的传播特性,合理搭建系统结构,对系统结构中需要的光器件采用工作原理、特性分析对比等方法,实现了该系统紫外光源、紫外探测器及紫外滤波片三种关键光器件的合理选择。日盲紫外光器件的选型为紫外无线通信系统整体实现提供了依据。...
类别:射频 2013年09月22日 标签: 无线通信 光电器件
LED Spot W使用体积小巧的LED灯头模块发射出大面积的极高强度的紫外光。采用外置水冷系统,使设计精巧的设备能产生极高的紫外光强度。由于机内无需安装冷却风扇,  LED Spot W也可用于洁净厂房。 方形出光口的光圈面积为20mm×20mm,配合所选择的强度/光照均匀性,可以通过改变光源到被照射物表面之间的距离而改变。光圈面积所形成的发光区域被分成4个工作块,每个...
类别:模拟及混合电路 2013年09月22日 标签: 程序控制
紫外光谱遥感仪所测量的太阳/大气辐射信号具有范围大、变化快的特点,一般的增益自动转换方法难以实现。为此提出了一种基于单片机控制,并结合模拟及数字通道增益转换优点的自动选择合适增益的设计,提高了仪器的智能化及实时性。关键词:单片机增益 自动转换星载紫外光谱遥感仪器的主要任务是通过测量地外太阳光谱辐照度及大气的太阳后向散射光谱辐亮度,经反演后得出臭氧总量的垂直分布,为全球气候变化提供数据。作为一台...
类别:其它 2013年09月22日 标签: 基于单片机控制的增益自动转换设计
紫外光通信系统作为一种新型的军事通信系统,具有抗干扰能力强、保密性好、非视距通信以及全方位通信等优点。它可作为一种专用局域军事保密通信手段,或在特定条件下作为其它通信手段的一种补充,可广泛应用于海陆空三军,对未来战争、现代化国防具有特殊的使用价值和实际意义。文中主要介绍了国内外紫外光通信系统的发展现状,并分析了其未来发展趋势。  ...
类别:射频 2013年09月22日 标签: 通信系统 紫外光
。5.发粘现象    原因:a.紫外光强度不足或机速过快。 b.UV光油存贮时间过长。c.不参与反应的稀释剂加入过多。    解决:a.固化速度小于0.5秒机速时,紫外光功率应不小于120w/cm。b.加入一定量的UV光油固化促进剂或更换光油。 c.注意合理使用稀释剂。6.附着力差,涂不上或发花现象    原因:a.印刷品油墨表面产生晶化油、喷粉等,水墨中合调墨油及燥油过多。c.UV光油粘度太小...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 常见 问题 解决
本文介绍了紫外通信系统中的视频传输领域,详细介绍了国内外紫外光通信的发展形势,以及紫外光视频传输中遇到的问题和解决方案。基于TI 生产的DM6437 开发板,使用H.264 作为视频压缩算法,进行了初步的研究和实验。...
类别:射频 2013年09月22日 标签: 紫外光通信系统中的视频传输研究
紫外光通信是一种新兴的基于大气散射和吸收的无线光通信技术,系统结构参数的选择对系统性能有重要影响。该文通过利用Luettgen提出的非视距单散射模型,比较了在不同仰角、光束孔径角情况下,损耗、延时、脉冲半宽展宽的变化特征,并给出了不同传输距离下能量密度的分布情况。根据仿真计算得到了不同紫外光通信条件下的损耗、时延和脉冲展宽。Ultraviolet (UV) communication bases...
类别:电路仿真 2013年09月22日 标签: 紫外光通信大气信道模型研究
描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁脉冲压缩网络,给出了关键参数的设计计算,并且介绍了新颖的末级磁脉冲压缩放电结构。实验结果显示:各级磁脉冲压缩效果达到设计指标,电源输出电压峰达30kV,输出电流峰值大于40kA,电流脉冲宽度200ns,满足Z箍缩放电等离子极紫外光源对主脉冲的要求。...
类别:其他 2013年09月22日 标签: 放电等离子体极紫外光源中的主脉冲电源

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像环形振荡器这样的基本设备,我们声称它是真正的产品,”Mark Papermaster在当天接受采访时表示7纳米芯片已经曝光。“摩尔定律正在放缓,半导体节点更加昂贵,而且我们没有得到我们过去常常得到的频率提升,”他在发布会上的一次谈话中说,称7-nm迁移“是一个粗略的提升,增加了掩模,更多的抵抗和寄生。“展望未来,使用极紫外光刻(EUV)的7纳米节点将“主要利用效率和一些适度的设备性能机会...
101次浏览 2018-12-10 嵌入式系统编程

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间裂纹。除着色检测外,荧光渗透检测也是常用的液体渗透检测方法,它需要配置紫外光灯进行照射观察,检测灵敏度比着色检测高。   涡流检测   涡流检测适用于检查表面以下一般不大于6~7MM深的缺陷。涡流检测分放置式线圈法和穿过式线圈法2种。:当试件被放在通有交变电流的线圈附近时,进入试件的交变磁场可在试件中感生出方向与激励磁场相垂直的、呈涡流状流动的电流(涡流),涡流会产生一与激励磁场方向相反...
101次浏览 2018-11-23 信息发布

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全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。 今年4月开始,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造,但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。 而接下...
102次浏览 2018-10-10 信息发布

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,N7+节点可在多达4个叠层上使用EUV(极紫外光刻),而能在多达14个叠层使用EUV的5nm工艺将于明年4月开始风险性试产,采用EUV的目的是通过减少先进芯片设计所需的掩膜(mask)数量来节约成本。 台积电表示,基于对5nm工艺生产的Arm A72芯片测试,其速度提升14.7%到17.7%,而面积缩小1.8到1.86倍。同时,N7+节点的闸极密度增加 20%,功耗减少6%到12%,而对速度上的变化...
101次浏览 2018-10-09 信息发布

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。 研究人员认为,这是由于紫外线辐射难以到达沟槽底部的蚀刻前沿。 他们补充说,相干的紫外光源可能有助于深沟槽蚀刻。 光电化学蚀刻可用于制造氮化镓中高纵横比深沟槽。 实线,虚线和虚线对应于基于PEC与沟槽宽度的纵横比的估计,其包括在两个壁中的0.7μm量级的侧蚀。 填充符号显示实验结果。 由图2可以看出实现的最大沟槽纵横比为7.3(3.3μm宽度和24.3μm深度)。 该团队说:“这种纵横比和蚀刻深度...
101次浏览 2018-09-30 信息发布

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的,就需要先将芯片开盖,将晶圆暴露以后才可以采用紫外光照射。由于这种芯片的加密性比较差,解密基本不需要任何成本,所以市场上这种芯片解密的价格非常便宜,比如SONIX的SN8P2511解密,飞凌单片机解密等价格就非常便宜。 6、利用芯片漏洞 很多芯片在设计的时候有加密的漏洞,这类芯片就可以利用漏洞来攻击芯片读出存储器里的代码,比如我们以前的文章里提到的利用芯片代码的漏洞,如果能找到联系的FF这样的代码...
101次浏览 2018-09-23 信息发布

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预估未来10到20年,半导体产业成长幅度会比全球GDP成长率高出200到300基点,整体半导体业产值年成长率将达到5-6%;虽然各项技术仍会面临盛衰,但未来创新的空间还是很大。 未来半导体业的创新技术,包含2.5D与3D IC封装技术、极紫外光(EUV)微影制程技术、人工智慧(AI)、机器学习芯片(GPU、TPU)、芯片架构、C-tube和石墨烯等新材料等。 过去半导体产业发展,业界共有十大...
101次浏览 2018-09-18 信息发布

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毫无疑问,对于三星而言这无疑是个坏消息。因为今年6月有报道称,三星正在努力,希望2019年能从台积电手中夺回部分A13处理器的代工订单。有消息人士透露,为了实现这一目标,三星在“全力”开发InFO封装技术,并声称在使用7nm极紫外光刻工艺生产芯片方面将先进于台积电。 为了吸引客户,三星甚至不惜将极紫外光刻工艺订单报价下调20%。但遗憾的是,这并未获得潜在客户的积极反馈。报道称,原因可能在于7nm...
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关键技术,希望能抛砖引玉,引起启发。 第一,消费电子方面,诸如3D封装、超紫外光微投技术、微机电系统感测器、超薄电池、人机界面、无线充电、微流体等技术,可以制造出更个性化的电子产品,越来越受到国外科技企业的重视。第二,应用于通讯领域的56Gbps信号传输、可调频天线、矽光子、低DK与DF材料、量子计算等技术,可增强数据传输的速度和效率,加速大数据社会的发展。其中5G通讯的带来,将会成为通讯领域升级发展...
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是2018款iPhone所使用的A12处理器的独家供应商。如今看来,2019款iPhone所使用的A13处理器也将继续由台积电独家供货。     毫无疑问,对于三星而言这无疑是个坏消息。因为今年6月有报道称,三星正在努力,希望2019年能从台积电手中夺回部分A13处理器的代工订单。有消息人士透露,为了实现这一目标,三星在“全力”开发InFO封装技术,并声称在使用7纳米极紫外光...
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IBM世界首款7nm芯片展示
这款测试芯片首度在7nm晶体管内加入一种叫做“硅锗”(silicon germanium,简称 SiGe)的材料,替代原有的纯硅,并采用了极紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV)微影技术。据悉,相较10nm,使用7nm制程后的面积将所缩小近一半,但同时因为能容纳更多的晶体管(200...
2015-09-10 标签: 7nm IBM 硅锗 SiGe EUV

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