datasheet
首页 > 关键词 > 光刻

光刻

在电子工程世界为您找到如下关于“光刻”的新闻

5nm近在眼前,极紫外光刻(EUV)技术有重磅突破
 全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。今年4月开始,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造,但仍在使用传统的深紫外光刻...
类别:半导体生产 2018-10-10 标签: 5nm 台积电
一文让你知道晶圆光刻技术
在集成电路的制造过程中,有一个重要的环节——光刻,正因为有了它,我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前,1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后,开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕(图案),他将油纸放在一块玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒,透光部分的沥青明显变硬,而不透光部分沥青依然软并可...
类别:工艺设备 2018-09-30 标签: 晶圆光刻
什么是EUV?为何如此昂贵
为什么三星、台积电、英特尔,这三家直接竞争对手企业争相投资ASML?EUV堪称半导体设备发展以来最昂贵的设备,一台售价高达9,000 万欧元。中芯国际也向阿斯麦下单了一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机。看看如何修炼这台设备的。...
类别:半导体生产 2018-09-30 标签: EUV 光刻
近日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意该项...
类别:半导体生产 2018-06-04 标签: 极紫外光刻胶
  5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家...
类别:综合资讯 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
  “假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。下面就随嵌入式小编一起来了解一下相关内容吧。  在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻...
类别:综合资讯 2018-06-01 标签: 光刻胶 半导体
差距很大!又斥巨资买光刻机,国产半导体设备困境如何解?
的集成电路光刻工艺是通过曝光的方法,将掩膜上的电路图形转移到光刻胶上,然后通过显影、刻蚀等工艺将电路图形转移到硅片上。这一系列的光刻工艺过程在芯片生产过程中需要重复25次左右。与此同时,光刻在芯片成本中也就占据了相当大的比例。在上述的工艺流程中,硅片的涂胶、曝光、清洗等重要步骤都离不开光刻机的使用,而光刻机的分辨率、精度也成为其性能的评价指数,直接影响到芯片的制程水平以及性能水平...
类别:工艺设备 2018-06-01 标签: 光刻
亟待攻克的核心技术:中国半导体产业因光刻胶失色
“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”据《科技日报》31日报道,日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受记者采访时如是说。在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口...
类别:半导体生产 2018-06-01 标签: 半导体
5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意...
类别:半导体生产 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口,必须加快面板产业关键核心...
类别:材料技术 2018-05-31 标签: 光刻胶

光刻资料下载

  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...
类别:其他 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术
  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...
类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶
参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧...
类别:IC设计及制造 2014年03月05日 标签: 电致发光
液晶显示器制造工艺流程基础技术一.工艺流程简述:前段工位:ITO 玻璃的投入(grading) 玻璃清洗与干燥(CLEANING)涂光刻胶(PR COAT) 前烘烤(PREBREAK)曝光(DEVELOP) 显影(MAIN CURE)蚀刻(ETCHING) 去膜(STRIP CLEAN) 图检(INSP)清洗干燥(CLEAN) TOP 涂布(TOP COAT)UV 烘烤(UV CURE) 固化...
类别:消费电子 2013年09月19日 标签: 液晶显示器制造工艺流程基础技术
提要:本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较,并用 仿真软件进行了模拟分析。研究表明,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术...
类别:电路仿真 2013年09月19日 标签: 离轴照明 光学光刻
成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术
报道了采用局部背接触结构的激光刻槽埋栅太阳电池的研究结果。模拟分析了局部背接触结构的作用,设计了合理的电池结构。通过工艺优化,得到了转换效率达到17. 28 %(大气质量AM = 1. 5 G,VOC = 650. 4mV ,JSC = 33. 15 mA/ cm2 , FF= 0. 8014 ,电池面积为4 cm2 )的太阳电池。 在少数载流子寿命大大提高和有发射区钝化的基础上,发生在晶体Si...
基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究王鲁宾,周金运,宋超(广东工业大学物理与光电工程学院,广东 广州 510006)摘要:针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD 相关双采样图像处理关键技术在本系统中的应用,结果表明CCD 图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um...
类别:DSP 2013年09月22日 标签: 基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究
符号位),②测温范围为-55℃-+125℃,测量分辨率为0.0625℃,③内含64位经过激光修正的只读存储器ROM,④适配各种单片机或系统机,⑤用户可分别设定各路温度的上、下限,⑥内含寄生电源。 2. DS18B20内部结构 DS18B20内部结构主要由四部分组成:64位光刻ROM,温度传感器,非挥发的温度报警触发器TH和TL,高速暂存器。64位光刻ROM是出厂前被光刻好的,它可以看作...
类别:其他 2013年09月19日 标签: 数字温度计的设计与实现
介绍了一种基于光强调制的新型光纤温度传感器,它是通过光刻腐蚀和镀敷金属材料的方法在光纤上直接形成的。对其测温原理进行了研究:纹光纤受轴向应变时,其中传输的光信号输出功率对轴向应变相当敏感,很容易测量出光信号输出功率减少,原因是由于纹段光纤受轴向应变时纤芯折射率及半径变化的结果,且纹段与未纹段将发生大小不同的应变。当外界环境温度发生变化时,由敷在纹光纤外表面上的金属敷层将随环境温度的变化...
类别:射频 2013年09月20日 标签: 一种基于强度调制的新型光纤温度传感器

光刻相关帖子

0

0

十分相似。IGBT是能源变换与传输的核心器件,俗称电力电子装置的“CPU”,作为国家战略性新兴产业,在轨道交通、智能电网、航空航天、新能源汽车等领域应用极广。 我国的IGBT产业有两大特点一、IGBT的需求空间大随着新技术、新材料及新工艺的出现,CAD设计、离子注入、多层金属化、纳米级光刻等先进工艺技术应用到功IGBT器件中,IGBT设计技术将不断得到推动和提升。未来,IGBT器件的应用将非常广泛...
101次浏览 2018-10-11 信息发布

0

0

全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。 今年4月开始,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造,但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。 而接下...
102次浏览 2018-10-10 信息发布

0

0

,N7+节点可在多达4个叠层上使用EUV(极紫外光刻),而能在多达14个叠层使用EUV的5nm工艺将于明年4月开始风险性试产,采用EUV的目的是通过减少先进芯片设计所需的掩膜(mask)数量来节约成本。 台积电表示,基于对5nm工艺生产的Arm A72芯片测试,其速度提升14.7%到17.7%,而面积缩小1.8到1.86倍。同时,N7+节点的闸极密度增加 20%,功耗减少6%到12%,而对速度上的变化...
101次浏览 2018-10-09 信息发布

0

0

发展。可以说,该晶圆厂的投产将加速合肥市产业转型升级的步伐。有消息表明,到2025年中国将投产新建约25条12寸晶圆项目,一举打破国外公司的垄断体系。 不过,该晶圆厂在厂房建设、设备采购过程中也遇到了一些困难。从技术角度看,在使用19nm制程工艺生产DRAM时,该工艺下黄光光刻区对AMCs气体极其敏感,工作区域中的洁净空气质量稍有偏差就会直接影响最终生产的良品率,所以,整个生产环节...
304次浏览 2018-09-28 综合技术交流

0

0

时代,它曾经由经典摩尔定律所代表,即依赖于少数材料以及通过光刻实现几何尺寸缩小,从而提升芯片性能、功耗、尺寸及成本,通常称为PPAC。而到了移动时代,我们看到原来用在经典摩尔定律中的系列材料达到物理极限,随着器件架构的变化采用一些新型材料,例如从平面晶体管转变到FinFETs来促进PPAC缩放。时至如今,对于人工智能时代而言,PPAC优化需要更多新型的其它材料。此外,尺寸缩小后,界面层在材料特征中的占比...
0次浏览 2018-09-27 信息发布

0

0

,用于制造这些结构的所有技术都涉及复杂且昂贵的图案化工艺,例如光刻和离子束蚀刻。而在此项新研究中,纳米磁铁可以进行自组装,只涉及简单的溅射工艺,不需要任何纳米级图案化加工工艺。 作为作者之一、华中科技大学的洪炯明认为,这项研究重要的部分是展示了具有良好热稳定性的亚5纳米存储单元,这项研究是未来自旋转移力矩随机存取存储器(STT MRAM)应用的关键组成部分。“我们采用自组装方法制造5纳米磁晶粒用于...
0次浏览 2018-09-17 信息发布

0

0

。晶元加工厂包含前后两道工艺,前道工艺分几大模块——光刻、薄膜、刻蚀、清洗、注入;后道工艺主要是封装——互联、打线、密封。其中,光刻是制造和设计的纽带。        其中许多工艺都在独立的工厂进行,而使用的设备也需要专门的设备厂制造;使用的材料包括几百种特种气体、液体、靶材,都需要专门的化工工业。另外,集成电路的生产都是在超净间进行的,因此还需要排风和...

0

0

13636598328本公司因订单需求,长期高价回收半导体硅材料:单晶硅、多晶硅、原生多晶、8寸抛光片、8寸光刻片、12寸抛光片、12寸光刻片、裸片、彩片、头尾料、边皮料、硅锭、硅块、硅片、硅粉、瓜籽料、紫晶棒;回收太阳能电池片、三栅片、五栅片、缺角片、崩边片、太阳能电池碎片、电池裸片、电池扩散片;回收蓝膜片、白膜片、IC小方片、flash储存芯片、闪存硅片等…上门回收,现场报价,热忱欢迎...
101次浏览 2018-09-05 信息发布

0

0

的新型存储元器件——平均直径为5纳米的磁铁。由于尺寸小、热稳定性高,以及可以应用于简单的自组装工艺制造,这种纳米磁铁被认为是下一代存储器件具有超密密度和低功耗的关键。相关文章发表在近期《应用物理快报》上。 以前的研究已经演示了几个不同种类的个位数纳米结构,然而到目前为止,用于制造这些结构的所有技术都涉及复杂且昂贵的图案化工艺,例如光刻和离子束蚀刻。而在此项新研究中,纳米磁铁可以进行自组装,只涉及简单...
101次浏览 2018-08-27 信息发布

1

0

了更多可能性。 ■ 直播日程 1、DLP技术的工业应用介绍 2、用于3D扫描/打印的全新DLPC347x 先进光控制器介绍 3、DLP技术在数字光刻应用中的设计要点分享 ■ 观看方式: 直播已结束 ■ 温馨提示: 如果提交表单后出现空白页面、页面跑丢的情况,不要着急,后台已记录了您的信息,可视为报名成功; 如果在跳转过程中出现“错误405”、“错误404”等情况,请刷新...
989次浏览 2018-08-24 汽车电子

光刻视频

微电子与微光刻技术
微电子技术工艺基础——微光刻与微/纳米加工技术,是人类迄今为止能够达到纳米级精度的加工技术,其加工设备和加工工艺也在不断发展以满足芯片加工从微米到纳米尺度的需求。一旦将电子元件作到纳米量级,其芯片的运行速度和内存都将大幅度提高,从而为未来的单电子计算机或纳米计算机的设计与实现开辟一条新的途径。...
2018-06-28 标签: 微电子 微光刻
MEMS与微系统
本课程全面介绍MEMS的基础理论、分析设计方法、制造技术、典型产品和器件,尝试通过本课程掌握微型化技术。课程内容包括基础力学与物理学、微加工技术、封装集成技术、传感器、执行器、RF MEMS、光学MEMS和BioMEMS与微流体。 课程强调设计与制造相结合、前沿与基础相结合;着重提取基础、重点和共性...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 微系统 王喆垚
半导体制造技术
半导体制造技术是半导体产业发展的基础,制造技术水平的高低直接影响半导体产品的性能及其发展。光刻,刻蚀,沉积,扩散,离子注入,热处理和热氧化等都是常用的半导体制造技术...
2018-06-24 标签: 半导体 制造
集成MEMS传感系统设计与应用
微机电系统是指可批量制作的,集微型机构、微型传感器、微型执行器以及信号处理和控制电路、直至接口、通信和电源等于一体的微型器件或系统。 微机电系统(MEMS, Micro-Electro-Mechanic System)是一种先进的制造技术平台。它是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS技术采用了...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 集成传感器 朱荣

小广播

北京市海淀区知春路23号集成电路设计园量子银座1305 电话:(010)82350740 邮编:100191
电子工程世界版权所有 京ICP证060456号 京ICP备10001474号 电信业务审批[2006]字第258号函 京公海网安备110108001534 Copyright © 2005-2016 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved