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光刻

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国际在线报道(记者 张喆炯):作为中国国家重大科研装备研制项目,“超分辨光刻装备研制”项目近日在超分辨成像器件设计与加工技术等关键技术上取得系列突破,研制出了全球首套分辨率突破了衍射极限的光刻装备,并拥有完全自主知识产权。这不仅打破了国外在高端光刻装备领域的垄断,也为纳米光学加工提供了全新的解决途径。经过近七年艰苦攻关,中国的“超分辨光刻装备研制”项目,在无国外成熟经验可借鉴...
类别:综合资讯 2018-11-30 标签: 超分辨光刻装备
年产25吨ArF光刻胶!南大光电宁波项目今日开工
集微网消息(文/春夏)11月2日,南大光电光刻胶材料及配套关键材料开发及产业化项目在浙江宁波北仑芯港小镇正式动工。        南大光电是我国集高纯电子材料研发、制造和产业化于一体的上市公司。        今年1月,南大光电与宁波经济技术开发区管理委员会签订投资协议书,南大光电拟在宁波开发区...
类别:综合资讯 2018-11-03 标签: ArF光刻胶
  2月23日消息,继续本月初三星高通在各种技术领域和移动设备范围达成多年战略合作关系之后,高通宣布与三星电子扩大EUV制程工艺的代工合作,包括采用三星7纳米LPP(Low Power Plus)EUV制程工艺制造未来骁龙5G移动芯片组。  去年五月,三星推出其首款采用EUV光刻解决方案的半导体制程工艺7LPP EUV。EUV光刻技术的部署预计将打破摩尔定律的壁垒,为单纳米...
类别:综合资讯 2018-02-24 标签: 晓龙 三星 EUV
集微网消息,1月12日晚间,南大光电发布公告,公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订《投资协议书》,公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,项目总用地面积约86亩,其中一期总投资预计约9.6亿元。对于签订此次投资协议的原因,南大光电表示,是为了抢抓机遇,加快项目进度,落实公司长期发展战略,利用自身优势,推动中国高端光刻...
类别:综合资讯 2018-01-13 标签: 南大光电
近日,在TI主办的DLP创新论坛上,Visitech作为专注DLP光刻及3D打印的供应商,公司GM Gary Gao为大家分享了Visitech公司对于DLP在工业中应用的理解。Gary表示,Visitech从1986年开始做投影相关技术,1995年开始转型DLP投影,2001年公司又从商业DLP应用转向工业DLP,其中2006年开始涉足3D打印市场,2011年开始进入光刻...
类别:综合资讯 2018-01-04 标签: Visitech DLP 光刻 3D打印
三星宣布11nm新工艺:7nm全面上极紫外光刻
  Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。下面就随网络通信小编一起来了解一下相关内容吧。  今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。   三星宣布...
类别:综合资讯 2017-10-09 标签: 三星 11nm
有着350年发展历史的德国默克公司,全球首个合作伙伴竟然“相中”彩虹,这到底是为什么,今天,跟着笔者去新闻现场看一看……5月16日,中国电子彩虹集团与德国默克公司举行正性光刻胶项目签约仪式,标志着彩虹集团彩虹新能源公司成为国内为数不多的平板显示材料(光刻胶)供应商之一,成功进入上游平板显示材料领域,为双方未来在平板显示材料领域规模化生产奠定了良好基础,对加快中国电子平板...
类别:面板/显示 2017-05-19 标签: 彩虹
近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。光刻设备是用于微细结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学...
类别:综合资讯 2017-04-14 标签: 光刻 微电子 中科院
就 ASML 光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路研发中心(ICRD)宣布合作之后,进一步深入参与中国的IC产业的发展。  光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”,制造光刻机更被比作是在微观世界里“造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成,定位精度都是纳米级。微米级的瞬时...
类别:综合资讯 2017-03-20 标签: 光刻机 ASML
全球芯片光刻设备市场领导者阿斯麦 (ASML) 于20-21日于厦门举行的「2016中国集成电路产业发展研讨会」中发表演讲。ASML中国区总经理金泳璇在高峰论坛指出:「物联网将带动全球IC市场快速成长。而随着中国IC自率的提升,以及提升整体半导体产业制造能力的需求,中国IC制造商对于12吋晶圆厂的量产和良率需求将大幅提升,同时也要准备迈入20nm以下先进制程节点。做为全球...
类别:综合资讯 2016-09-23 标签: 量测设备 控制

光刻资料下载

  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...
类别:其他 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术
  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...
类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶
参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧...
类别:IC设计及制造 2014年03月05日 标签: 电致发光
液晶显示器制造工艺流程基础技术一.工艺流程简述:前段工位:ITO 玻璃的投入(grading) 玻璃清洗与干燥(CLEANING)涂光刻胶(PR COAT) 前烘烤(PREBREAK)曝光(DEVELOP) 显影(MAIN CURE)蚀刻(ETCHING) 去膜(STRIP CLEAN) 图检(INSP)清洗干燥(CLEAN) TOP 涂布(TOP COAT)UV 烘烤(UV CURE) 固化...
类别:消费电子 2013年09月19日 标签: 液晶显示器制造工艺流程基础技术
提要:本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较,并用 仿真软件进行了模拟分析。研究表明,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术...
类别:电路仿真 2013年09月19日 标签: 离轴照明 光学光刻
成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术
        激光全息光刻技术利用光的干涉衍射特性,通过特定的光束组合方式,来调控干涉场内的光强度分布,并用感光材料记录下来,从而产生光刻图形。...
类别:科学普及 2013年12月06日 标签: 激光全息光刻法制作光子晶体LED
详细介绍光刻原理和技术....
类别:其他 2013年04月09日 标签: 光刻原理和技术
超大规模集成电路技术系统地介绍了超大规模集成电路工艺理论和工艺方法。全书共九章,包括光刻、掺杂、氧化及热处理、薄膜工艺基础与物理气相沉积、化学汽相沉积、刻蚀、平坦化与多重内连线工艺及超大规模集成电路工艺汇总等。重点介绍亚微米、半亚微米前道加工技术及相关工艺设备,也介绍了特征尺寸达到0.18μm、硅圆晶片直径为300mm(12英寸)及256Mb DRAM的有关动态。本书可作为高等院校半导体、电子...
类别:模拟及混合电路 2013年09月22日 标签: 超大规模集成电路技术
。 二、功放的薄膜电路制作工艺2.1 薄膜典型工艺流程 薄膜电路工艺一般采用先激光打孔;然后蒸发、溅射、沉积等方法制作电阻层、过渡层、导体层;光刻后电镀加厚,或先图形电镀后再光刻等方法实现光化学转移图形制作;最后采用激光或砂轮切割等方法分割电路。2.2 功放薄膜电路工艺 目前,在薄膜电路中应用最广泛的导体材料是金(Au),金不仅具有优良导电性...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 大功 率微 波功 放集 成工 艺探

光刻相关帖子

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本帖最后由 qwqwqw2088 于 2019-2-16 18:27 编辑 为何CPU辣么难造?把CPU内部放大一万倍后,你便叹为观止< 把CPU内部放大一万倍后 好帖! 以前曾经把EPROM芯片的石英玻璃窗口敲碎,用显微镜看窗口里面的芯片。那只有200倍。那时的集成度不高,管子数量不是太多。虽然如此,也看不出单个管子。 有意思的是:虽然看不出单个管子,但芯片上面光刻...
61次浏览 2019-02-16 聊聊、笑笑、闹闹

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了不同学科间的数据传递难题,极大缩短了研发周期,节省了研发成本,有效提升了光学设计仿真精度,最大程度上提高了光机产品的成像质量与环境适应性。目前,SigFit 已广泛应用于空间相机、红外光学镜头、激光引信、激光雷达、光学导引头、光学传感器、舰载光电武器、激光通信、显微光刻等的研发阶段。        润科通用针对客户需求,提供了成熟...
0次浏览 2019-02-14 信息发布

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伴随半导体的发展,随之而来的是半导体光刻技术的发展,光刻技术经历了从最初的接触式光掩模技术起步,到今天的世界最先进光刻技术已经跨越到了7nm。弹指间,技术变革的脚步始终不变,集成电路也进入了掩模新时代。 半导体掩模产业发展增速显著 我国半导体产业发展面临着前所未有的新机遇。一方面,我国逐步成为世界上半导体最大的消费国,另一方面未来几年国内和国际知名企业纷纷登陆中国建设新的晶圆厂。 以上产业...
0次浏览 2019-01-11 信息发布

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像环形振荡器这样的基本设备,我们声称它是真正的产品,”Mark Papermaster在当天接受采访时表示7纳米芯片已经曝光。“摩尔定律正在放缓,半导体节点更加昂贵,而且我们没有得到我们过去常常得到的频率提升,”他在发布会上的一次谈话中说,称7-nm迁移“是一个粗略的提升,增加了掩模,更多的抵抗和寄生。“展望未来,使用极紫外光刻(EUV)的7纳米节点将“主要利用效率和一些适度的设备性能机会...
363次浏览 2018-12-10 嵌入式系统编程

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的新功能,包括在光刻胶显影后并且晶圆尚可重新加工的情况下,立即在光刻系统中进行检查。Surfscan® SP7系统为裸片晶圆、平滑和粗糙的薄膜提供了前所未有的缺陷检测灵敏度,这对于制造用于7nm节点逻辑和高级内存元件的硅衬底非常重要,同时也是在芯片制造中及早发现工艺问题的关键。这两款新的检测系统都旨在通过从根源上捕捉缺陷偏移,以加快创新电子元件的上市时间。    ...
502次浏览 2018-07-11 综合技术交流

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  IC制造分为晶圆制造及加工,晶圆制造是指利用二氧化硅作为原材料制作单晶硅,需要熔炼炉、CVD设备、单晶炉和切片机等设备;晶圆加工是指在晶圆上制作逻辑电路的过程,需要镀膜、光刻、显影、刻蚀、离子注入等工艺过程,需要PECVD、LPCVD、光刻机、刻蚀机、离子注入机、扩散炉等设备。IC封测是IC生产的后段环节,对晶圆进行减薄、切割、贴片、引线键合、封装、测试等过程,需要减薄机、引线键合机...
606次浏览 2018-03-07 信息发布

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。 下面详细介绍PLC光分路器。 PLC分路器采用半导体工艺(光刻、腐蚀、显影等技术)制作。光波导阵列位于芯片的上表面,分路功能集成在芯片上,也就是在一只芯片上实现1、1等分路;然后,在芯片两端分别耦合输入端以及输出端的多通道光纤阵列并进行封装。 PLC分路器的优点 (1)损耗对光波长不敏感,可以满足不同波长的传输需要。 (2)分光均匀,可以将信号均匀分配给用户。 (3)结构紧凑,体积小...
303次浏览 2018-02-28 信息发布

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,GPON等)中连接局端和终端设备并实现光信号的分路。目前有1×N及2×N两种类型。1×N和2×N分路器将光信号均匀地从单个或双个进口均分地输入多个出口,或反向工作将多个光信号汇入单根或双根光纤。2生产工艺PLC分路器采用半导体工艺(光刻、腐蚀、显影等技术)制作。光波导阵列位于芯片的上表面,分路功能集成在芯片上,也就是在一只芯片上实现1、1等分路;然后,在芯片两端分别耦合输入端以及输出端的多通道光纤阵列...
505次浏览 2018-01-04 信息发布

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,最优的性能,快速实现产品上市。 讲师介绍: Jacky Xu 德州仪器资深现场应用工程师 Kevin Song 德州仪器产品市场工程师 直播好礼:(预报名参与直播、直播中提问,均有机会获赠好礼!) 有奖直播:25美分实现25种功能, TI MSP430方案全揭秘(今早10:00) 眼前闪耀的缠绵梦境,心在肆无忌惮的背叛从容,时光刻满青春不老的岁月痕迹,散发的幽香再也不能藏进永恒...
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加上引线,保护釉经激光刻阻制作而成。 这种薄膜铂热电阻具有良好的长期稳定性。在600℃温度下工作1000h后,其电阻变化<0.02%。 薄膜铂热电阻的引线随工作温度不同而异: -200~150℃时,引线材质:钯银合金。Φ0.25mm×10mm。 -50~400℃时,引线材质:钯银合金。Φ0.25mm×10mm。 -50~600℃时,引线材质:铂镍合金。Φ0.25mm×10mm。 -60...
953次浏览 2017-11-05 工控电子

光刻视频

微电子与微光刻技术
微电子技术工艺基础——微光刻与微/纳米加工技术,是人类迄今为止能够达到纳米级精度的加工技术,其加工设备和加工工艺也在不断发展以满足芯片加工从微米到纳米尺度的需求。一旦将电子元件作到纳米量级,其芯片的运行速度和内存都将大幅度提高,从而为未来的单电子计算机或纳米计算机的设计与实现开辟一条新的途径。...
2018-06-28 标签: 微电子 微光刻
MEMS与微系统
本课程全面介绍MEMS的基础理论、分析设计方法、制造技术、典型产品和器件,尝试通过本课程掌握微型化技术。课程内容包括基础力学与物理学、微加工技术、封装集成技术、传感器、执行器、RF MEMS、光学MEMS和BioMEMS与微流体。 课程强调设计与制造相结合、前沿与基础相结合;着重提取基础、重点和共性...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 微系统 王喆垚
半导体制造技术
半导体制造技术是半导体产业发展的基础,制造技术水平的高低直接影响半导体产品的性能及其发展。光刻,刻蚀,沉积,扩散,离子注入,热处理和热氧化等都是常用的半导体制造技术...
2018-06-24 标签: 半导体 制造
集成MEMS传感系统设计与应用
微机电系统是指可批量制作的,集微型机构、微型传感器、微型执行器以及信号处理和控制电路、直至接口、通信和电源等于一体的微型器件或系统。 微机电系统(MEMS, Micro-Electro-Mechanic System)是一种先进的制造技术平台。它是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS技术采用了...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 集成传感器 朱荣

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