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光刻

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差距很大!又斥巨资买光刻机,国产半导体设备困境如何解?
近日,国内几家于2015~2016年投资建设的半导体制造厂开始进入密集的设备移入期。5月20日,上海华力二期建设的华虹六厂搬入了首台荷兰阿斯麦公司(ASML)生产的NXT 1980Di光刻机,用于其12英寸先进生产线建设项目;长江存储亦于5月19日接入了用于20nm~14nm工艺3D NAND闪存生产的阿斯麦公司的193nm浸润式光刻机。中芯国际也传出消息,于不久之前下单采购...
类别:工艺设备 2018-06-01 10:15:02 标签: 光刻
副总裁George Gomba就表示,唯一有能力做250瓦EUV光刻机的ASML(阿斯麦)提供的现款产品NXE-3400仍不能满足标准,他们建议供应商好好检查EUV光罩系统,以及改进光刻胶。这里对光刻做一下简单科普。光刻就是将构成芯片的图案蚀刻到硅晶圆上过程。晶圆上涂有称为光刻胶的光敏材料,然后将该晶圆暴露在通过掩模照射的明亮光线下。掩模掩盖的区域将保留其光刻胶层,而直接暴露...
类别:市场动态 2018-03-01 12:05:35 标签: ASML 光刻
近日,在TI主办的DLP创新论坛上,Visitech作为专注DLP光刻及3D打印的供应商,公司GM Gary Gao为大家分享了Visitech公司对于DLP在工业中应用的理解。Gary表示,Visitech从1986年开始做投影相关技术,1995年开始转型DLP投影,2001年公司又从商业DLP应用转向工业DLP,其中2006年开始涉足3D打印市场,2011年开始进入光刻...
类别:综合资讯 2018-01-04 15:12:50 标签: Visitech DLP 光刻 3D打印
上海微电子采购Bumotec机床 加速中国光刻机研发
,在完成紧急查验后当晚就放行。没错,这台设备就是荷兰ASML的光刻机。铁流猜测,这台设备很有可能是厦门当地政府与台湾联华电子合资的晶圆厂从荷兰ASML采购的。不过,由于西方瓦森纳协议的限制,中国只能买到ASML的中低产品,这一点从厦门当地企业进口的光刻机报价仅1亿人民币就可以看出来了。目前,光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML,并已经占据了高达80%的市场份额,垄断了高端光刻机市场...
类别:市场动态 2017-06-08 10:31:31 标签: 上海微电子 光刻
近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。光刻设备是用于微细结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学...
类别:综合资讯 2017-04-14 09:32:34 标签: 光刻 微电子 中科院
EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
; 但有些物理专家表示,除非有某种技术的突破才能突破摩尔定律的限制。今天,英特尔等芯片厂商通过量子力学技术能够在尖端芯片上摆放数十亿个微处理器。    摩尔定律的延续已成为一个巨大挑战,英特尔CEO Brian Krzanich给出的解决方案是——一种新的技术extreme ultraviolet lithography(EUV,极紫外线光刻...
类别:市场动态 2013-11-01 09:48:37 标签: 摩尔定律 EUV 光刻
英特尔认为浸入式光刻能延伸到11纳米
英特尔认为浸入式光刻能延伸到11纳米   英特尔的先进光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特尔希望EUV或者无掩模电子束光刻能作为193纳米浸入式光刻在11纳米的后补者,并声称11纳米可能发生在2015年。   Borodovsky表示193nm浸入式光刻技术可能延伸到分别在2011和2013年的22nm及16nm 中。      在Nikon...
类别:综合资讯 2011-11-03 09:31:32 标签: 英特尔 浸入式 光刻
    美国科学家通过纳米模版光刻技术(nanostencil lithography)在可弯曲式基板上制作出大范围的纳米图案。这个高产量的制作技术只需要一个步骤,就能制作出可包覆弯曲物体的新颖光电组件,可望应用在医学成像与环境监控等领域。         软性电子在过去十年...
类别:电源设计 2011-10-25 19:59:47 标签: 光电 纳米 光刻
    据业界分析人士称,Intel 2011年在光刻技术设备方面的支出预计可达15亿美元左右。     巴克莱资本(Barclays Capital)指出,32nm工艺节点上,日本尼康是Intel光刻设备的唯一供应商,不过到了下一代22nm工艺,荷兰ASML Holding NV将会杀回,与尼康共同...
类别:工艺设备 2010-10-28 15:17:59 标签: 英特尔 光刻
;  2010 Q3中新增加的订单总计60台设备,价值为12,97亿欧元,其中包括最先进的浸入式设备及能满足于扩大产能的KrF设备,平均每台设备的售价为2160万欧元。     截止2010 年9月26日ASML的订单存量(backlog)高达26.93亿欧元,总计达110台设备,每台平均售价为2450万欧元,反映订单能满足各种光刻...
类别:工艺设备 2010-10-21 16:34:56 标签: ASML 光刻

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  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...
类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶
成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术
详细介绍光刻原理和技术....
类别:其他 2013年04月09日 标签: 光刻原理和技术
  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...
类别:其他 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术
光刻工艺培训资料 光刻过程 分类 工艺参数...
类别:IC设计及制造 2015年04月21日 标签: photo 光刻 Fab资料 工艺 IC
任何一种数字成像的核心都是图像传感器。它的基本结构包括一个能把光转换为图像的有源像素矩阵。数码相机和带相机的移动电话带动了图像传感器需求市场的快速增长,它们已成为主要 IC 制造商大量生产的产品之一。制造成像阵列通常采用两种主要的工艺技术——电荷耦合器件(CCD)和 CMOS 图像传感器(CIS)。在形成工艺层次组合和电学设计方面,这两种技术有很大差别。但是,两者都...
类别:IC设计及制造 2013年09月20日 标签: 用于图像传感器制造的光刻技术
        激光全息光刻技术利用光的干涉衍射特性,通过特定的光束组合方式,来调控干涉场内的光强度分布,并用感光材料记录下来,从而产生光刻图形。...
类别:科学普及 2013年12月06日 标签: 激光全息光刻法制作光子晶体LED
成门极换流晶闸管(IGCT)的光刻技术的设计工艺研究...
类别:IC设计及制造 2013年09月22日 标签: 晶闸管 光刻技术 技术 设计 工艺
基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究王鲁宾,周金运,宋超(广东工业大学物理与光电工程学院,广东 广州 510006)摘要:针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD 相关双采样图像处理关键技术在本系统中的应用,结果表明CCD 图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um...
类别:DSP 2013年09月22日 标签: 基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究
为满足电磁型平面微电机对定子绕组线圈的高深宽比及厚度要求,提出一种利用AZ4903光刻胶制作电磁平面微电机定子绕组的方法。通过反复摸索,得到了该光刻胶的较理想_的转速一胶膜厚度、前烘时间一温度的关系曲线及合适的曝光、显影时间。制作出了厚度为40 m、陡直度良好的定子绕组线圈。把利用该工艺制作的定子绕组和转子装配后形成了微电机,通过对该电机转速和输出力矩的测试结果表明,电机运转平稳、力矩波动小...

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本课程全面介绍MEMS的基础理论、分析设计方法、制造技术、典型产品和器件,尝试通过本课程掌握微型化技术。课程内容包括基础力学与物理学、微加工技术、封装集成技术、传感器、执行器、RF MEMS、光学MEMS和BioMEMS与微流体。 课程强调设计与制造相结合、前沿与基础相结合;着重提取基础、重点和共性...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 微系统 王喆垚
集成MEMS传感系统设计与应用
微机电系统是指可批量制作的,集微型机构、微型传感器、微型执行器以及信号处理和控制电路、直至接口、通信和电源等于一体的微型器件或系统。 微机电系统(MEMS, Micro-Electro-Mechanic System)是一种先进的制造技术平台。它是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS技术采用了...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 集成传感器 朱荣

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