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光刻

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近日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意该项...
类别:半导体生产 2018-06-04 标签: 极紫外光刻胶
  5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家...
类别:综合资讯 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
  “假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。下面就随嵌入式小编一起来了解一下相关内容吧。  在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻...
类别:综合资讯 2018-06-01 标签: 光刻胶 半导体
差距很大!又斥巨资买光刻机,国产半导体设备困境如何解?
的集成电路光刻工艺是通过曝光的方法,将掩膜上的电路图形转移到光刻胶上,然后通过显影、刻蚀等工艺将电路图形转移到硅片上。这一系列的光刻工艺过程在芯片生产过程中需要重复25次左右。与此同时,光刻在芯片成本中也就占据了相当大的比例。在上述的工艺流程中,硅片的涂胶、曝光、清洗等重要步骤都离不开光刻机的使用,而光刻机的分辨率、精度也成为其性能的评价指数,直接影响到芯片的制程水平以及性能水平...
类别:工艺设备 2018-06-01 标签: 光刻
亟待攻克的核心技术:中国半导体产业因光刻胶失色
“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”据《科技日报》31日报道,日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受记者采访时如是说。在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口...
类别:半导体生产 2018-06-01 标签: 半导体
5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等,审阅了验收资料。经过认真讨论,与会专家一致同意...
类别:半导体生产 2018-06-01 标签: 极紫外光刻胶
“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口,必须加快面板产业关键核心...
类别:材料技术 2018-05-31 标签: 光刻胶
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻...
类别:半导体生产 2018-05-24 标签: 7nm处理器
5月23日,三星宣称公司很快就开始用7nm技术制造处理器。 上月,在台媒消息称“苹果A12确定采用台积电7nm工艺,华为麒麟980可能采用台积电7nm工艺”后,三星便在第一季度财报中透露了7nm EUV(远紫外区光刻)工艺研发完成,将于今年下半年正式量产,这比预期进度提早了半年。 尽管都是7nm制程,但台积电与三星技术路线却不同。台积电延用传统的光刻...
类别:半导体生产 2018-05-24 标签: 7nm
一文了解集成电路总体、DRAM、FPGA和光刻设备领域的专利态势
近日,中国集成电路知识产权联盟秘书处纲正知识产权中心发布了《集成电路专利态势报告(2018版)》。该报告分别从集成电路总体、DRAM 领域、FPGA 领域、光刻设备领域这四个方面,分析了各个领域的专利态势。集成电路总体专利态势首先来看集成电路总体的专利态势,据报告显示,集成电路领域专利申请量态势逐年增长。2010年-2015年间年均增长率 5.89%,其中 2015 年增速...
类别:半导体生产 2018-05-14 标签: DRAM FPGA

光刻资料下载

  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...
类别:其他 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术
  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...
类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶
参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧...
类别:IC设计及制造 2014年03月05日 标签: 电致发光
液晶显示器制造工艺流程基础技术一.工艺流程简述:前段工位:ITO 玻璃的投入(grading) 玻璃清洗与干燥(CLEANING)涂光刻胶(PR COAT) 前烘烤(PREBREAK)曝光(DEVELOP) 显影(MAIN CURE)蚀刻(ETCHING) 去膜(STRIP CLEAN) 图检(INSP)清洗干燥(CLEAN) TOP 涂布(TOP COAT)UV 烘烤(UV CURE) 固化...
类别:消费电子 2013年09月19日 标签: 液晶显示器制造工艺流程基础技术
提要:本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较,并用 仿真软件进行了模拟分析。研究表明,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术...
类别:电路仿真 2013年09月19日 标签: 离轴照明 光学光刻
成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...
类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术
报道了采用局部背接触结构的激光刻槽埋栅太阳电池的研究结果。模拟分析了局部背接触结构的作用,设计了合理的电池结构。通过工艺优化,得到了转换效率达到17. 28 %(大气质量AM = 1. 5 G,VOC = 650. 4mV ,JSC = 33. 15 mA/ cm2 , FF= 0. 8014 ,电池面积为4 cm2 )的太阳电池。 在少数载流子寿命大大提高和有发射区钝化的基础上,发生在晶体Si...
基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究王鲁宾,周金运,宋超(广东工业大学物理与光电工程学院,广东 广州 510006)摘要:针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD 相关双采样图像处理关键技术在本系统中的应用,结果表明CCD 图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um...
类别:DSP 2013年09月22日 标签: 基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究
符号位),②测温范围为-55℃-+125℃,测量分辨率为0.0625℃,③内含64位经过激光修正的只读存储器ROM,④适配各种单片机或系统机,⑤用户可分别设定各路温度的上、下限,⑥内含寄生电源。 2. DS18B20内部结构 DS18B20内部结构主要由四部分组成:64位光刻ROM,温度传感器,非挥发的温度报警触发器TH和TL,高速暂存器。64位光刻ROM是出厂前被光刻好的,它可以看作...
类别:其他 2013年09月19日 标签: 数字温度计的设计与实现
介绍了一种基于光强调制的新型光纤温度传感器,它是通过光刻腐蚀和镀敷金属材料的方法在光纤上直接形成的。对其测温原理进行了研究:纹光纤受轴向应变时,其中传输的光信号输出功率对轴向应变相当敏感,很容易测量出光信号输出功率减少,原因是由于纹段光纤受轴向应变时纤芯折射率及半径变化的结果,且纹段与未纹段将发生大小不同的应变。当外界环境温度发生变化时,由敷在纹光纤外表面上的金属敷层将随环境温度的变化...
类别:射频 2013年09月20日 标签: 一种基于强度调制的新型光纤温度传感器

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,这也对OLED效率和分辨率有一定的限制。研究人员目前开始研究如何才能制造具有高分辨率的微型显示器,同时还能提供高效率和较长使用寿命。OLED有机层的图案化是目前面临的最大挑战之一,因为诸如光刻等常规方法不能用于有机半导体材料的制备。两年前,Fraunhofer FEP就成功地演示了使用电子束技术进行微结构化。通过利用其专利工艺,FEP能够通过现有的封装层调整OLED发光,从而实现任何可想象的功能...
0次浏览 2018-08-13 信息发布

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无线加速度传感器  基本信息:牧坤无线加速度传感器在功率、噪声、带宽和温度规格方面处于业界领先地位,产品延伸到智能加速度传感器、高速加速度传感器节点。    产品构造:牧坤无线加速度传感器采用进口三轴加速度传感计,行业领先的10mg测量精度,确保加速度测量的精准度和准确性。感应单元以光刻法附着在陶瓷基板上,电阻结构用玻璃钝化层保护...
55次浏览 2018-08-06 信息发布

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PCB 主要基材为覆铜板,即CCL,覆铜板是由玻纤、铜箔和树脂等组成。PCB 工艺流程相对复杂,首先需要制作内层线路板,主要包括开料、涂布、曝光、显影、蚀刻及退膜。内层板完成后,进行压合,压合工序包括棕化-预叠-压合,然后将压合后的多层内层板进行钻孔、沉铜、电镀、显影、蚀刻及退膜。 化学品贯穿PCB 制作流程。PCB 化学品根据用途可分为四大类:基板用化学品、线路成像用光刻胶及网印油墨、电镀...
0次浏览 2018-07-27 信息发布

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的功能层,其目的是传输最大的能量进出标签芯片。与传统蚀刻法,绕线法相比,标签天线的直接印制法大大节约了成本。   1.标签天线的传统制造工艺   ①采用蚀刻方式加工制备标签天线   天线在蚀刻前应先印刷上抗蚀膜,首先将PET薄膜片材两面覆上金属(如铜、铝等)箔;然后采用印刷法(丝网印刷,凹印等)或光刻法,在基板双面天线图案区域印刷抗蚀油墨,用以保护线路图形在蚀刻中不被溶蚀掉:然后进行蚀刻...
202次浏览 2018-07-24 RF/无线

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eMMC简介 eMMC (Embedded Multi Media Card) 为MMC协会所订立的内嵌式存储器标准规格,主要是针对手机产品为主。eMMC的一个明显优势是在封装中集成了一个控制器,它提供标准接口并管理闪存,使得手机厂商就能专注于产品开发的其它部分,并缩短向市场推出产品的时间。这些特点对于希望通过缩小光刻尺寸和降低成本的NAND供应商来说,具有同样的重要性。eMMC的结构...
101次浏览 2018-07-19 安防电子

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等环节。”中国移动北京集成电路创新中心总经理肖青向《通信产业报》(网)记者表示,“我国在材料、制程以及工艺等关键技术领域缺乏积累,所以这是一个长期的过程。” 以MEMS为例,它用微加工技术将各种产品整合到基于硅的微电子芯片上,MEMS工艺与传统的IC工艺有许多相似之处,如光刻、薄膜沉积、掺杂、刻蚀、化学机械抛光工艺等,但有些复杂的微结构难以用IC工艺实现,必须采用微加工技术制造。包括硅的体微加工...
101次浏览 2018-07-12 信息发布

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的新功能,包括在光刻胶显影后并且晶圆尚可重新加工的情况下,立即在光刻系统中进行检查。Surfscan® SP7系统为裸片晶圆、平滑和粗糙的薄膜提供了前所未有的缺陷检测灵敏度,这对于制造用于7nm节点逻辑和高级内存元件的硅衬底非常重要,同时也是在芯片制造中及早发现工艺问题的关键。这两款新的检测系统都旨在通过从根源上捕捉缺陷偏移,以加快创新电子元件的上市时间。    ...
101次浏览 2018-07-11 综合技术交流

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铂金弯折线用光刻法附着在陶瓷基板上,电阻结构用玻璃钝化层保护,可抵抗机械损伤和化学腐蚀。外壳采用航空铝材7075,防震防冲击   产品特性:1、快速响应时间2、长期稳定性                3、低自加热反应4、低功耗5、无线zigbee6、自组网产品型号...
0次浏览 2018-07-10 信息发布

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是非常复杂的,大约会涉及到五十个行业、2000-5000个工序。就拿代工厂来说,需要先将“砂子”提纯成硅,再切成晶元,然后加工晶元。晶元加工厂包含前后两道工艺,前道工艺分几大模块——光刻、薄膜、刻蚀、清洗、注入;后道工艺主要是封装——互联、打线、密封。其中,光刻是制造和设计的纽带。 其中许多工艺都在独立的工厂进行,而使用的设备也需要专门的设备厂制造;使用的材料包括几百种特种气体、液体、靶材,都需要...
202次浏览 2018-07-09 电源技术

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        采用Fusion技术的新思科技Design Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。     为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler? Graphical RTL综合,IC Compiler? II 布局和布线...
404次浏览 2018-07-06 信息发布

光刻视频

微电子与微光刻技术
微电子技术工艺基础——微光刻与微/纳米加工技术,是人类迄今为止能够达到纳米级精度的加工技术,其加工设备和加工工艺也在不断发展以满足芯片加工从微米到纳米尺度的需求。一旦将电子元件作到纳米量级,其芯片的运行速度和内存都将大幅度提高,从而为未来的单电子计算机或纳米计算机的设计与实现开辟一条新的途径。...
2018-06-28 标签: 微电子 微光刻
MEMS与微系统
本课程全面介绍MEMS的基础理论、分析设计方法、制造技术、典型产品和器件,尝试通过本课程掌握微型化技术。课程内容包括基础力学与物理学、微加工技术、封装集成技术、传感器、执行器、RF MEMS、光学MEMS和BioMEMS与微流体。 课程强调设计与制造相结合、前沿与基础相结合;着重提取基础、重点和共性...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 微系统 王喆垚
半导体制造技术
半导体制造技术是半导体产业发展的基础,制造技术水平的高低直接影响半导体产品的性能及其发展。光刻,刻蚀,沉积,扩散,离子注入,热处理和热氧化等都是常用的半导体制造技术...
2018-06-24 标签: 半导体 制造
集成MEMS传感系统设计与应用
微机电系统是指可批量制作的,集微型机构、微型传感器、微型执行器以及信号处理和控制电路、直至接口、通信和电源等于一体的微型器件或系统。 微机电系统(MEMS, Micro-Electro-Mechanic System)是一种先进的制造技术平台。它是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS技术采用了...
2017-11-28 标签: MEMS 清华 集成传感器 朱荣

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