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光刻

在电子工程世界为您找到如下关于“光刻”的新闻

三星抢生意 推4奈米

南韩三星电子把晶圆代工事业分拆成新部门后,24日在美国硅谷举办晶圆论坛并公布制程蓝图,宣布在2020年时推出4奈米制程,今年稍后推出8奈米制程,摆明要和晶圆代工龙头台积电抢生意。三星承诺,将推出领先对手的新制程技术,并于今年第4季前设立新厂运作。 三星宣布,今年内推出8奈米制程,明年推出7奈米、且率先采用新一代极紫外光微影技术(EUV光刻),藉此减少制造步骤、降低成本,也提高...

类别:半导体生产 2017-05-26 21:49:39 标签: 三星 4纳米

我国物联网已成四大空间格局,未来空间不可限量

我国物联网已成四大空间格局,未来空间不可限量

成熟推动MEMS传感器将半导体加工工艺(如氧化、光刻、扩散、沉积和蚀刻等)引入传感器的生产制造,实现了规模化生产。3.巨头布局加速产业链整合。尽管离物联网的真正实现还较远,但目前行业快速扩散的势头已十分明朗,主要IT巨头们正在加紧布局。2016年2月,思科宣布以14亿美元收购物联网平台供应商Jasper Technologies,这标志着顶级企业级软件公司致力于主导企业物联网...

类别:物联网与云计算 2017-05-26 19:02:35 标签: 物联网 空间格局 市场规模

三星叫板台积电:芯片我们可以自己造

三星叫板台积电:芯片我们可以自己造

,2018年推出7纳米技术。其7纳米生产工艺将首次采用极紫外光刻——新版芯片电路印刷技术。三星称,采用这种技术可减少生产步骤、降低成本和提高芯片性能。该公司还称2020年引入4纳米生产技术,届时晶体管的排列将有全新面貌。以上是关于半导体中-三星叫板台积电:芯片我们可以自己造的相关介绍,如果想要了解更多相关信息,请多多关注eeworld,eeworld电子工程将给大家提供更全、更详细...

类别:市场动态 2017-05-26 17:57:04 标签: 三星 台积电 芯片

浅谈射频探针的发展

浅谈射频探针的发展

圆晶探针∣Z∣-探针。∣Z∣-探针可以覆盖40GHz范围并且实现了若干种创新思想。1) 这个探针没有使用微同轴电缆。实现了从同轴连接到空气绝缘共面接触线的直接过渡。2) 这个过渡是在探针体内制作的,这便允许对过渡点进行一个准确的优化,从而将可能的不连续性减到最小。3) 共面接触是采用一个紫外光刻和电镀工艺(UV-LIGA)制作的,这个工艺与制作MEMS 产品的工艺类似。其极高的...

类别:通信与网络 2017-05-25 22:21:52 标签: 射频探针 RF

挑战台积电!三星独立芯片制造业务 在芯片代工领域真正竞争

挑战台积电!三星独立芯片制造业务 在芯片代工领域真正竞争

纳米技术将在今年晚些时候推出,2018年推出7纳米技术。其7纳米生产工艺将首次采用极紫外光刻——新版芯片电路印刷技术。三星称,采用这种技术可减少生产步骤、降低成本和提高芯片性能。该公司还称2020年引入4纳米生产技术,届时晶体管的排列将有全新面貌。    以上是关于嵌入式中-挑战台积电!三星独立芯片制造业务 在芯片代工领域真正竞争的相关介绍,如果想要了解更多相关...

类别:综合资讯 2017-05-25 20:31:55 标签: 三星 台积电 芯片代工

自主芯片和操作系统势在必行

自主芯片和操作系统势在必行

势在必行  微电子装备总体研究室主任胡松表示,设备采用的新型纳米对准技术,成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级,是实现功能化器件加工的关键。其应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题,为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、MEMS器件等微纳结构器件的制备。  华中科技大学国家光电实验室的甘棕松教授在国外攻读...

类别:综合资讯 2017-05-24 17:03:06 标签: 自主芯片 操作系统

必创科技自主研发MEMS 创新传感器未来

必创科技自主研发MEMS 创新传感器未来

,能够对芯片生产工艺版图进行自主设计;在前道流片生产环节,必创科技掌握了光刻、双面光刻、深刻蚀DRIE、晶圆键合等核心工艺;同时,必创科技自主研发了开口封装技术,已经建成后道封装生产线。封装测试是保证MEMS芯片自身性能实现的重要方式,其成本约占到芯片生产成本的50%,与生产环节相比,封装测试环节水平同样决定公司在MEMS压力传感器芯片领域的竞争力。在MEMS模组生产环节,必创...

类别:行业动态 2017-05-18 17:53:55 标签: MEMS 传感器 必创科技

OLED供需最新分析-设备投资布局符合预期但OLED供给紧张

Display Supply Chain Consultants (DSCC) 近期发布了最新一期的季度OLED供需报告,在过去追踪OLED产能布局,良率以及出货按不同应用的基础上又额外增加了柔性显示以及可弯曲可折叠应用产品的分类数据,以及OLED设备市场的份额预测,包括蒸镀设备,喷墨印刷,光刻设备以及准分子激光退火设备。  DSCC CEO Ross...

类别:便携/移动产品 2017-05-11 16:22:06 标签: 智能手机 移动产品

三星VS台积电 10nm之后听谁的

三星VS台积电 10nm之后听谁的

最初为7nm工艺设计了两个版本:一种是针对高性能应用的7nm工艺,一种是针对移动应用的7nm工艺。但是这两种工艺都需要采用浸没式光刻技术和DUV技术。经过多次尝试之后,台积电最终决定引入更加先进的制造工艺,将EUV技术引入7nm工艺中。这一方法可以说是从GlobalFoundries的制造工艺中得到的借鉴。   三星VS台积电 10nm之后听谁的  台积电的第一代...

类别:综合资讯 2017-05-09 15:39:41 标签: 三星 台积电 10nm

美国科研人员实现1nm 制程工艺

制造。下面就随手机便携小编一起来了解一下相关内容吧。  来自EETimes的报道称,美国能源部(DOE)下属的布鲁克海文国家实验室的科研人员日前宣布创造了新的世界记录,他们成功制造了尺寸只有1nm的印刷设备,使用还是电子束印刷工艺而非传统的光刻印刷技术。  这个实验室的科研人员创造性地使用了电子显微镜造出了比普通EBL(电子束印刷)工艺所能做出的更小的尺寸,电子敏感性材料在聚焦...

类别:综合资讯 2017-05-08 17:18:52 标签: 1nm 制程

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光刻资料下载

半导体光刻技术及设备的发展趋势立即下载

  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...

类别: 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术

光刻胶与光刻工艺技术立即下载

  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...

类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶

有机电致发光显示器件新型封装技术及材料的研究.rar立即下载

参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧...

类别:IC设计及制造 2014年03月05日 标签: 电致发光

光学光刻中的离轴照明技术立即下载

提要:本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较,并用 仿真软件进行了模拟分析。研究表明,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术...

类别:电路仿真 2013年09月19日 标签: 离轴照明 光学光刻

半导体激光器光刻工艺立即下载

        通过光刻步骤介绍,分析了808大功率激光器的光刻流程......

类别:科学普及 2013年12月06日 标签: 半导体激光器光刻工艺

基于SOPC技术的激光直写数字伺服控制器立即下载

目前,精密、超精密加工技术的应用已从国防尖端和航空航天等少数部门扩展到国民经济领域。伴随着半导体产业的不断发展,对超大规模集成电路制造业的核心—激光直写光刻技术的需求在不断提高。激光直写光刻技术利用强度可变的激光束对基片表面实施变剂量曝光,其重要环节是利用计算机控制激光束进行高精度扫描。在光刻过程中,置于载物台的光刻基片随平台移动,由声光调制器控制激光束的强弱对其进行变剂量曝光,载物工作台所达到...

类别:工业控制 2013年09月22日 标签: 基于SOPC技术的激光直写数字伺服控制器

photo 光刻工艺 Fab资料立即下载

光刻工艺培训资料 光刻过程 分类 工艺参数...

类别:IC设计及制造 2015年04月21日 标签: photo 光刻 Fab资料 工艺 IC

成品率驱动的光刻校正技术立即下载

成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...

类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术

基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究立即下载

基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究王鲁宾,周金运,宋超(广东工业大学物理与光电工程学院,广东 广州 510006)摘要:针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD 相关双采样图像处理关键技术在本系统中的应用,结果表明CCD 图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um 的...

类别:DSP 2013年09月22日 标签: 基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究

激光全息光刻法制作光子晶体LED立即下载

        激光全息光刻技术利用光的干涉衍射特性,通过特定的光束组合方式,来调控干涉场内的光强度分布,并用感光材料记录下来,从而产生光刻图形。...

类别:科学普及 2013年12月06日 标签: 激光全息光刻法制作光子晶体LED

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安徽自助芯片大时代可靠势在必行

,上海微电子也发布了平板显示光刻机,产品良率高达95%(原本的良率为70%-80%)的高亮度LED光刻机,MEMS和功率器件光刻机。光刻机是芯片生产中最核心的设备,光刻机的巨大进步,绝对不是一般的意义,这对于芯片产业具有绝对重要的意义。中国自己的芯片显然不能委托别的国家生产。 微电子装备总体研究室主任胡松表示,设备采用的新型纳米对准技术,成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级,是实现...

101次浏览 2017-05-24 信息发布

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端面刻蚀技术:为云数据中心点亮通往400G及更高速率之路

芯片:首先将激光器上电,通过物理操作改善光耦合,然后锁定到位。这一过程既浪费时间,又成本高昂,而且迄今为止,通过CFT能够实现的光耦合效率仅为50%。 而凭借MACOM的EFT技术,激光器面和硅芯片均通过高精度光刻工艺界定,并且EFT激光器通过专有的自对准(SAEFT™)工艺以标准倒装方式贴装到芯片上,这种工艺同时支持边缘发射和表面发射激光器。这种端到端光刻工艺可确保激光器...

0次浏览 2017-05-23 信息发布 标签: 数据中心 激光器 物联网 最大的 技术

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数字成像芯片的制作过程怎么样北京股商看到底有何与众不同

“魔法”——“我们在存储单元上搭建了一个结构,不过我们的搭建方式是使用一系列的金属镀膜、蚀刻和光刻,以搭建一个3D微镜阵列,”Jeff说,“所以,虽然我们使用的是标准半导体设备和处理工艺,我们的操作方式却要优于传统使用方法,从而让我们得以与众不同。”   在经历了漫长的开发、设计和测试之旅后,下一步就到了生产制造。但这并不是终点。Jeff说,他和他的团队仍然保持着活力,帮助客户解决全新DLP芯片...

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,还可以到100 kΩ或更高。  2 夹层电阻结构及原理特性分析  2.1 夹层电阻的结构  在集成电路工艺中,实现夹层电阻有很多种方法。本文研究的夹层电阻就是其中的一种,它不需要通过额外增加光刻MASK层就能实现。图1为该夹层电阻的平面示意图。  图1中,夹层电阻区为低浓度的P型注入区,它主要利用工艺中的现有层次实现,比如Pbase层或者Pbody层。该P型夹层电阻区被N+和N阱完全包围,因此该...

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集成运放电路设计原理图     一、集成电路及其特点     集成电路是利用氧化,光刻,扩散,外延,蒸铝等集成工艺,把晶体管,电阻,导线等集中制作在一小块半导体(硅)基片上,构成一个完整的电路。按功能可分为模拟集成电路和数字集成电路两大类,其中集成电路运算放大器(线性集成电路,以下简称集成运放)是模拟集成电路中应用最广泛的,它实质上是一个高增益的直接...

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我们总是会很频繁的在媒体上看到电池技术领域里的最新研究成果。虽然这些新技术可能暂时还无法实现大规模应用,但在研究人员的不懈努力之下,技术突破和商业应用之间的距离正在逐渐缩小。本文将要介绍的就是三种极具发展前景的电池技术,它们不仅很快会出现在我们的生活当中,并有可能真正改变这个世界。 固态电池 目前被大规模应用锂离子电池存在一个很大的缺点,那就是可能会毫无征兆地自燃。为了解决这个...

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关于3D打印你需要知道的

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虽然我们经常从新闻中看到“3D打印器官救助生命”、“3D打印帮助残疾小狗重新走路”的消息,但显然,这种新技术仍未真正来到消费市场。但可以肯定的是,3D打印已经成为了家庭生产力、小规模定制服务的趋势,下面就来了解一下关于3D打印各方面的信息、以及它对你的生活会带来怎样的影响。 3D打印的概念及分类 简而言之,3D打印是通过计...

2015-05-11 标签: 3D打印

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