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光刻

在电子工程世界为您找到如下关于“光刻”的新闻

7nm之后 半导体行业的荣光将由谁守护?

将在安全性方面受到更大的制约。在汽车中,芯片需要在恶劣的环境条件中以严格的运行参数工作十年以上。  “理想情况下,你需要检查所有东西,但这需要时间和金钱以及对计量技术的大量投资。”ASML应用产品管理总监HenkNiesing说,“对于随机缺陷,你仍然在这一领域。但这样的话,你就不需要增加更多计量。你可以在计算方面做到更多。”  迁移变慢的第三个原因是尽管人们对光刻问题(多重...

类别:市场动态 2017-07-27 13:26:07 标签: 7nm 晶圆

三星正筹划在五年内将芯片市场份额提高两倍

三星正筹划在五年内将芯片市场份额提高两倍

。但目前三星并未透露芯片代工业务部门的投资建设规模。在路透社的采访中,E.S. Jung表示,三星将在韩国华城打造新一代芯片生产线,预计投资6万亿韩元(约合人民币364亿元)。届时,芯片代工业务部门将与三星存储芯片业务共享该生产线。此外,三星还表示,到2018年下半年,公司将会使用新一代芯片制造技术——极紫外光刻,从而降低成本和制造的复杂性。而台积电也已宣布将在明年使用该芯片...

类别:市场动态 2017-07-26 10:41:02 标签: 三星

倒逼英特尔?AMD将率先迈进7nm时代

倒逼英特尔?AMD将率先迈进7nm时代

当年的28nm一样,所以Zen2和Zen3都会采用。同时,工程团队也能花费更多的精力在芯片的微架构和系统解决方案。Mark并没有透露AMD的7nm是否来自GF,但目前的确GF和台积电的进度最快。他还透露,EUV(极紫外光刻)技术最早引入的时间预计在2019年。然而令人遗憾的是,Intel的10nm年底才能见到,而且也要和14nm一样至少用3代。从这个角度看,Intel的7nm...

类别:市场动态 2017-07-26 10:12:22 标签: 英特尔 AMD

三星:五年将晶圆代工份额提升至25%,台积电:不打口水战

通过更先进的技术来吸引客户。2018年下半年,三星将使用新一代制造技术“极紫外光刻”(EUV lithography)来制造芯片。而台积电本月早些时候也表示,明年将使用该技术。昨天,台积电表示不评论竞争对手策略,但有信心未来几年,全球市场仍会稳定向上提升。台积电淡定响应三星,似乎也显示除在7nm先进制程,向下延伸至5及3nm二个关键的先进制程,都将维持领先优势。台积电供应链表示...

类别:半导体生产 2017-07-25 21:03:05 标签: 三星 晶圆 台积电

三星:五年将晶圆代工份额提升至25%,台积电:不打口水战

三星:五年将晶圆代工份额提升至25%,台积电:不打口水战

通过更先进的技术来吸引客户。2018年下半年,三星将使用新一代制造技术“极紫外光刻”(EUV lithography)来制造芯片。而台积电本月早些时候也表示,明年将使用该技术。昨天,台积电表示不评论竞争对手策略,但有信心未来几年,全球市场仍会稳定向上提升。台积电淡定响应三星,似乎也显示除在7nm先进制程,向下延伸至5及3nm二个关键的先进制程,都将维持领先优势。台积电供应链表示...

类别:半导体生产 2017-07-25 21:01:24 标签: 三星 晶圆 台积电

三星计划将芯片代工份额增加2倍 或还将靠苹果订单

三星计划将芯片代工份额增加2倍 或还将靠苹果订单

仅公开证实将在2018年下半年使用远紫外光刻技术生产7纳米芯片——或许刚好赶上iPhone 9发布,但可能仍需与台积电展开竞争。...

类别:综合资讯 2017-07-25 20:53:35 标签: 三星 苹果

使用康耐视产品对轮毂进行刻码及追溯

使用康耐视产品对轮毂进行刻码及追溯

引导定位相机工位,引导刻码位置;4)激光刻码:机械手根据引导定位相机数据,调整姿态位置,触发激光打码机进行刻码;5)二维码读取验证:DataMan读码工位对所刻二维码进行读取验证,确保以上流程。整个检测完毕,该设备也完成了整个工作中最核心的检测任务,后面的机器人会根据DataMan的检测结果将对应的产品放到指定的通道中。VisionPRO强大而高效的图像处理技术在该技改项目中发...

类别:工业电子 2017-07-25 20:35:15 标签: 康耐视 机器视觉 读码器

三星计划将芯片代工份额增加2倍 或还将靠苹果订单

明年发布的A系列处理器订单。但三星仅公开证实将在2018年下半年使用远紫外光刻技术生产7纳米芯片——或许刚好赶上iPhone 9发布,但可能仍需与台积电展开竞争。    以上是关于网络通信中-三星计划将芯片代工份额增加2倍 或还将靠苹果订单的相关介绍,如果想要了解更多相关信息,请多多关注eeworld,eeworld电子工程将给大家提供更全、更详细、更新的...

类别:综合资讯 2017-07-25 16:12:56 标签: 三星 芯片

三星:五年将晶圆代工份额提升至25%,台积电:不打口水战

三星:五年将晶圆代工份额提升至25%,台积电:不打口水战

大客户,三星还要积极争取小客户。  E.S. Jung说:“我们要成为该市场的第二大竞争厂商。”  E.S. Jung还称,三星将通过更先进的技术来吸引客户。2018年下半年,三星将使用新一代制造技术“极紫外光刻”(EUV lithography)来制造芯片。而台积电本月早些时候也表示,明年将使用该技术。  昨天,台积电表示不评论竞争对手策略,但有信心未来几年,全球市场仍会稳定向上...

类别:综合资讯 2017-07-25 15:52:07 标签: 三星 晶圆

三星矛头直指台积电 要坐芯片代工市场第二把交椅

。但E.S. Jung表示,三星将根据市场需求来调整产能。  E.S. Jung还称,三星将通过更先进的技术来吸引客户。2018年下半年,三星将使用新一代制造技术“极紫外光刻”(EUV lithography)来制造芯片。而台积电本月早些时候也表示,明年将使用该技术。...

类别:市场动态 2017-07-25 11:02:27 标签: 三星 台积电

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光刻资料下载

半导体光刻技术及设备的发展趋势立即下载

  随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。  ...

类别: 2013年09月16日 标签: 半导体 光刻技术

光刻胶与光刻工艺技术立即下载

  光刻胶与光刻工艺技术  微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小  区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形  的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将  其曝露于某种光源下,如紫外光,电子束或X-射线,对抗蚀层进行选择性的  曝光.完成这项工作需利用光刻机,掩模版,甚至电子束光刻时的数据带.  曝光后的硅片经过显影...

类别:科学普及 2013年09月22日 标签: 光刻 光刻胶

有机电致发光显示器件新型封装技术及材料的研究.rar立即下载

参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧...

类别:IC设计及制造 2014年03月05日 标签: 电致发光

光学光刻中的离轴照明技术立即下载

提要:本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较,并用 仿真软件进行了模拟分析。研究表明,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术...

类别:电路仿真 2013年09月19日 标签: 离轴照明 光学光刻

基于SOPC技术的激光直写数字伺服控制器立即下载

目前,精密、超精密加工技术的应用已从国防尖端和航空航天等少数部门扩展到国民经济领域。伴随着半导体产业的不断发展,对超大规模集成电路制造业的核心—激光直写光刻技术的需求在不断提高。激光直写光刻技术利用强度可变的激光束对基片表面实施变剂量曝光,其重要环节是利用计算机控制激光束进行高精度扫描。在光刻过程中,置于载物台的光刻基片随平台移动,由声光调制器控制激光束的强弱对其进行变剂量曝光,载物工作台所达到...

类别:工业控制 2013年09月22日 标签: 基于SOPC技术的激光直写数字伺服控制器

photo 光刻工艺 Fab资料立即下载

光刻工艺培训资料 光刻过程 分类 工艺参数...

类别:IC设计及制造 2015年04月21日 标签: photo 光刻 Fab资料 工艺 IC

成品率驱动的光刻校正技术立即下载

成品率驱动的光刻校正技术,成品率驱动的光刻校正技术……...

类别:科学普及 2013年09月29日 标签: 成品 率驱 动的 光刻 校正 技术

基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究立即下载

基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究王鲁宾,周金运,宋超(广东工业大学物理与光电工程学院,广东 广州 510006)摘要:针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD 相关双采样图像处理关键技术在本系统中的应用,结果表明CCD 图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um 的...

类别:DSP 2013年09月22日 标签: 基于视频共焦显微镜光刻对准系统设计研究

光刻原理和技术.立即下载

详细介绍光刻原理和技术....

类别:其他 2013年04月09日 标签: 光刻原理和技术

数字温度计的设计与实现立即下载

符号位),②测温范围为-55℃-+125℃,测量分辨率为0.0625℃,③内含64位经过激光修正的只读存储器ROM,④适配各种单片机或系统机,⑤用户可分别设定各路温度的上、下限,⑥内含寄生电源。 2. DS18B20内部结构 DS18B20内部结构主要由四部分组成:64位光刻ROM,温度传感器,非挥发的温度报警触发器TH和TL,高速暂存器。64位光刻ROM是出厂前被光刻好的,它可以看作是...

类别:工业控制 2013年09月19日 标签: 数字温度计的设计与实现

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每年的资本开支高达约100亿美元。但E.S. Jung表示,三星将根据市场需求来调整产能。   E.S. Jung还称,三星将通过更先进的技术来吸引客户。2018年下半年,三星将使用新一代制造技术“极紫外光刻”(EUV lithography)来制造芯片。而台积电本月早些时候也表示,明年将使用该技术。 三星矛头直指台积电 北京股商围观芯片代工市场第二把交椅...

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,上海微电子也发布了平板显示光刻机,产品良率高达95%(原本的良率为70%-80%)的高亮度LED光刻机,MEMS和功率器件光刻机。光刻机是芯片生产中最核心的设备,光刻机的巨大进步,绝对不是一般的意义,这对于芯片产业具有绝对重要的意义。中国自己的芯片显然不能委托别的国家生产。 微电子装备总体研究室主任胡松表示,设备采用的新型纳米对准技术,成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级,是实现...

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