IBM, Mentor和Toppan开发22纳米光源

2008-09-27 10:42:59来源: 半导体国际

  IBM近日表示,它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术(CS),包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化(SMO)的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。

  IBM方面表示,作为IBM基于计算的光刻程序,SMO将使光刻照明光源的控制更加完美。CS技术采用复杂的运算法则修改掩膜版形状和控制照明光源。IBM和Mentor期望基于其Cell处理器开发出设计硬件,使用于模拟掩膜版优化所需的时间保持到一整夜的时间。CS会主动链接到IBM可升级基于网络的云计算策略。

  商用的SMO Beta工具预计将于2009年6月交货,包含了特别设计的最佳光源的计算。

 

关键字:IBM  Mentor  Toppan  22纳米光源

编辑:梁朝斌 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/packing/200809/article_22449.html
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