我国集成电路布图设计登记明显超过国外

2007-08-29 08:43:07来源: 新华网
信息产业部所做的集成电路布图设计知识产权态势分析表明,中国集成电路布图设计登记明显超过国外,其比重达到80.93%,国外所占比重为19.17%。其中,尤其以上海表现突出,登记量达到500多件,占半数左右。

28日,记者从上海举行的“2007年度电子信息产业标准与知识产权峰会”上了解到,截至2007年7月6日,中国集成电路布图设计登记总量为1374件,其中国内1112件,所占比重达到80.93%,国外262件,所占比重为19.17%。

从地区分布来看,中国的上海、江苏、北京、广东、福建、台湾以及美国、日本等地,集成电路布图设计登记量呈现增长趋势。

据悉,此项分析采用的数据出自国家知识产权局2007年7月6日以前公告的集成电路设计专有权登记文献。

关键字:信息  标准  知识产权

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/market/200708/20526.html
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