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采用30纳米工艺设计,三星开发成功全球首款64Gb NAND闪存

2007-11-01来源: 电子工程专辑 关键字:排列  光刻  成本  容量

三星开发成功了全球第一个64Gb多层单元NAND闪存芯片。该芯片采用30纳米工艺设计。据三星介绍,这标志着存储密度连续第八年每年提高一倍,连续第七年纳米尺度为NAND闪存得到改善,2001年开发的100纳米NAND具有1Gb容量

该NAND芯片的生产采用了三星开发的自排列双成型技术(SaDPT)。

使用SaDPT,使三星能够在30纳米生产过程中利用现有的光刻设备。它计划在2009年实现大规模生产。三星表示,通过采用传统的光刻设备,它能够大大加快实现量产的速度,同时改善生产的成本效率。三星引用市场调研公司Gartner的研究报告称,64Gb NAND闪存以及更大容量器件的市场规模可能在2009-2011年达到200亿美元。

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