MAPPER与TSMC向22nm更先进制程迈进

2008-10-20 11:38:41来源: 互联网

  MAPPER公司总执行长Christopher Hegarty表示:我们在2007年9月首度展示无光罩大量平行电子束微影技术,在不久的将来,我们将推出首批适用于12吋集成电路制造的设备。

  台积公司研究发展副总经理孙元成博士表示:为了能让22纳米及更先进集成电路制造有机会在符合成本效益下完成,我们将就MAPPER公司的解决方案进行测试,看能否达成此一目标。我们将在最新的机台上验证它在制造上的可行性。

  MAPPER公司的微影技术运用了大量平行电子束(量产的设备将高达13,000条电子束),直接将电路图刻写到晶圆上,可省去目前微影技术及机台设备所需的昂贵光罩。由于不需要运用到光罩,MAPPER公司所开发的微影设备可望在未来大幅降低集成电路制造成本,并且提升其晶圆生产量。

  目前的微影设备采用光学显影方式,在晶圆上产生比人类头发直径还要细一百倍以上的精细电路图像。在这样的过程中,需要运用到印有芯片电路蓝图的光罩,再将此电路蓝图成像到涂布有感光液的晶圆上(与冲洗照片时,利用相纸上的感光层从底片成像的步骤相似)。然而,这样的光学显影方式在下世代集成电路制造上,面临了成本急遽上扬以及分辨率极限的双重考验。

关键字:MAPPER  TSMC  22nm

编辑:梁朝斌 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/eda/200810/article_22615.html
本网站转载的所有的文章、图片、音频视频文件等资料的版权归版权所有人所有,本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如果本网所选内容的文章作者及编辑认为其作品不宜公开自由传播,或不应无偿使用,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。
论坛活动 E手掌握
微信扫一扫加关注
论坛活动 E手掌握
芯片资讯 锐利解读
微信扫一扫加关注
芯片资讯 锐利解读
推荐阅读
全部
MAPPER
TSMC
22nm

小广播

独家专题更多

富士通铁电随机存储器FRAM主题展馆
富士通铁电随机存储器FRAM主题展馆
馆内包含了 纵览FRAM、独立FRAM存储器专区、FRAM内置LSI专区三大部分内容。 
走,跟Molex一起去看《中国电子消费品趋势》!
走,跟Molex一起去看《中国电子消费品趋势》!
 
带你走进LED王国——Microchip LED应用专题
带你走进LED王国——Microchip LED应用专题
 

About Us 关于我们 客户服务 联系方式 器件索引 网站地图 最新更新 手机版

站点相关: 数字电视 安防电子 医疗电子 物联网

北京市海淀区知春路23号集成电路设计园量子银座1305 电话:(010)82350740 邮编:100191

电子工程世界版权所有 京ICP证060456号 京ICP备10001474号 电信业务审批[2006]字第258号函 京公海网安备110108001534 Copyright © 2005-2016 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved