ASML谈光刻技术的光明未来

2007-11-14 08:35:36来源: 电子工程专辑

光刻设备供应商ASML Holding NV (ASML)认为全球半导体光刻市场具备从2006年50亿欧元(72亿美元)增长到2012年100亿欧元(144亿美元)的潜力,期间市场的年增长率为13%。ASML告诉投资者,这个估算是基于对半导体市场的预测和客户节点转移的蓝图,结合了对光刻设备的高需求和推进半导体更新换代的方面的因素。

该公司重申了到2010年,其收入要达50亿欧元的计划,它强调说该估算源于由浸没式光刻技术设备的加速的成功。

该公司补充说,至今,超过400万数量的硅芯片制程使用了它的浸没式系统,使客户制造功能更强大或者更廉价的半导体产品成为可能。

ASML公司告诉金融分析员它在加速推动一些技术的发展,比如远紫外光刻,计算光刻,双重图形和3D融合比如覆盖和CD一致。“所有的选择都要求复杂的光刻技术,这就意味着可以引导光刻设备方面的支出,而ASML的优势充分体现在光刻领域中的领先技术,高生产率,以及其所拥有的最佳价值作用。”

关键字:客户  节点  设备  浸没

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/eda/200711/16820.html
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