诺发巩固其在光刻胶去除领域的市场领先地位

2007-07-26 16:45:30来源: 电子工程世界

      GAMMA Express可延伸技术推动产品被广泛认可

2007年7月26日,中国上海
—诺发系统有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代码:NVLS)日前宣布其在2006年美国西部半导体设备展览会(SEMICON West)上推出的GAMMA Express系统正在成为该公司历史上市场认可速度最快的产品之一。自 2007 年初以来,公司已接到针对多款GAMMA Express系统的续订订单,这些系统在亚洲已被领先的半导体制造商应用于高级研发与生产过程中。GAMMA平台采用多站式顺序处理(MSSP)技术,可用于领先存储器、逻辑器件以及全球代工厂设备的生产制造,目前每个月可处理逾一百万片晶圆。诺发公司已为客户安装了250多套系统,在针对高产能制造的300mm光刻胶去除领域中占据市场领先地位。

随着半导体行业向高级技术节点过渡,光刻胶去除已成为日益重要的工艺步骤。在高剂量离子注入光刻胶去除(HDIS)的过程中,保持较低的硅氧损失量对提高晶体管性能至关重要。GAMMA Express平台不仅适用于前道(FEOL)和后道(BEOL)应用,同时还为大容量、高剂量离子注入光刻胶去除提供了最高水平的技术、可靠性和生产力。因而,该平台的拥有成本较低,实现了对制造可变性的紧密控制,正常工作时间超过95%。

“随着客户日益认识到针对高级工艺节点的高效率光刻胶去除技术的优势,GAMMA Express正受到广泛的市场关注。”诺发公司副总裁兼表面整合技术部总经理Kevin Jennings先生表示,“在诺发公司全球服务基础设施的全面支持下,GAMMA平台凭借其高可靠性、高生产力以及技术上可达32nm的高度可延伸性,不断赢得客户青睐。”

关键字:制造  控制  节点  晶体

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/eda/200707/14870.html
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