Silterra联手IMEC进军90nm工艺

2007-06-21 08:41:43来源: 电子工程专辑

Silterra将与总部位于比利时的研究机构IMEC合作进行90nm生产。马来西亚芯片制造商已经在考虑跳过90nm节点,直接转向65nm生产。其合作伙伴表示,他们将扩展现有的合作关系,共同开发90nm CMOS工艺技术,最终升级到65nm。

合作的工程团队将在Leuven的IMEC研究室进行90nm工艺的开发工作,这次开发有望为2008年下半年的生产作准备。这些公司表示,该技术将针对计算、数字信号处理图形应用进行优化,并将为Silterra和其它工厂间的合作以及Silterra进军300mm制造工艺铺路。

此次声明标志着Silterra的一次转变,该公司正在引进高成本投资到90~65nm工艺能力中,据说Silterra已经准备跟随客户直接进入65nm节点的生产。

CEO Eg Kah Yee表示,Silterra正“致力于纯工厂业务”,与IMEC的开发合作是支持其客户群所“必不可少的”。

他表示,Silterra将继续致力于RF、高压和低功率等特定应用,并将其0.18微米产品转向更低的节点。“我们发现未来两到三年内有大幅的业务增长机会,我们将继续积极地投资工艺技术。”他补充道。

关键字:数字  信号  图形  制造

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/eda/200706/14249.html
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