45纳米设计工具挑战重重,中国工程师可否一展身手?

2006-03-13 11:55:28来源: 互联网

由美国半导体行业协会(SIA)会长George Scalise日前主持的一场自由讨论中,来自Cadence Design Systems、Rambus和Sun Microsystems等公司的高层表达了他们的担忧。他们认为,保持IC产业生产率增长日益艰难。其中一位公司高层就表示,这是因为“设计在日益缩小的特征尺寸下变得复杂无比。”

Sun Microsystems公司设计自动化CTO Rob Mains指出:“当我们向45纳米转移时,不仅仅是IC难以设计,用于设计IC的具设计和创建也困难重重。”

Cadence CEO兼总裁Mike Fister表示,数字设计在45纳米处表现出的模拟特性成为优化可以贯穿平台工具的一大挑战。“产品系列宽泛的工具供应商需要不仅确保工具互用性,还要确保工具集的内在优化。”

Scalise表,示设计复杂性将使设计数量缩水,进而吃掉工具供应商、独立器件制造商和IP供应商的利润率。但Sun的Mains对此持有异议。“设计业将总会找到应对这些挑战的解决之道。也许存在先进设计分支和模拟无法企及的其它类型的设计。”

设计与工艺技术的链接是45纳米设计的关键一环,而工具供应商是双方的纽带。Rambus平台方案副总裁Laura Stark建议考虑中国工程师的帮助,“也许重新发明下一代工具。有如此多的天赋人才,我们需要开发利用的途径。”

但考虑到与中国有关的IP忧虑时,Stark补充说,“我们谨慎地确保有周密计划,只对增值IP方案与中国进行接触。”

关键字:45纳米  设计工具  

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/news/eda/200603/482.html
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