加拿大研制成功“可涂抹”激光,力图解除芯片互连瓶颈

2006-05-08 10:57:35来源: 互联网

      多伦多大学电气和计算机工程系的研究人员日前研制出一种据称能解决微芯片互连瓶颈的激光。

      科学家们认为,该激光将令采用红外光在芯片中形成互连成为可能。这将有助于消除一些业内的忧虑,即当前一代的微芯片将在2010年左右达到实际的能力极限。

      这种激光不是传统意义上的激光,而是采用胶状量子点形式,据研究人员称这是一种纳米规模的半导体微粒,悬浮在溶剂中。

      负责加拿大纳米技术研究的Ted Sargent教授表示,“我们制成了可涂抹到其它材料上的激光,这是首个可涂抹半导体激光,生成不可见光,通过光纤携带信息。红外线在未来有望被用于连接硅计算机芯片上的微处理器。”

      介绍该激光的研究论文发表于4月17日出版的期刊《Optics Express》。


关键字:红外光  胶状  量子点

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/newproducts/packing/200605/3678.html
本网站转载的所有的文章、图片、音频视频文件等资料的版权归版权所有人所有,本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如果本网所选内容的文章作者及编辑认为其作品不宜公开自由传播,或不应无偿使用,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。
论坛活动 E手掌握
微信扫一扫加关注
论坛活动 E手掌握
芯片资讯 锐利解读
微信扫一扫加关注
芯片资讯 锐利解读
推荐阅读
全部
红外光
胶状
量子点

小广播

About Us 关于我们 客户服务 联系方式 器件索引 网站地图 最新更新 手机版

站点相关:

北京市海淀区知春路23号集成电路设计园量子银座1305 电话:(010)82350740 邮编:100191

电子工程世界版权所有 京ICP证060456号 京ICP备10001474号 电信业务审批[2006]字第258号函 京公海网安备110108001534 Copyright © 2005-2016 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved