Axcelis推出用于亚65nm制造的离子灌注器

2006-02-08 11:15:36来源: 互联网

Axcelis技术公司推出的Optima HD是一种离子灌注器,可用于大流量灌注及亚65nm器件制造等场合。这种新型低能大剂量系统可提供200eV至80KeV能量,支持新兴双聚乙烯门和绝缘硅的分子和氢灌注。

Optima HD采用高级点束技术进行灌注,可确保晶圆上所有点从相同角度都能看到同一光束。此外,该系统还使用Axcelis的专有RadiusScan技术,提高产量,剂量覆盖范围更广,可满足传统及新兴高剂量灌注的要求。

该公司有望于2006年第二季度推出该系统。

关键字:离子灌注器

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/newproducts/packing/200602/263.html
本网站转载的所有的文章、图片、音频视频文件等资料的版权归版权所有人所有,本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如果本网所选内容的文章作者及编辑认为其作品不宜公开自由传播,或不应无偿使用,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。
论坛活动 E手掌握
微信扫一扫加关注
论坛活动 E手掌握
芯片资讯 锐利解读
微信扫一扫加关注
芯片资讯 锐利解读

小广播

About Us 关于我们 客户服务 联系方式 器件索引 网站地图 最新更新 手机版

站点相关:

北京市海淀区知春路23号集成电路设计园量子银座1305 电话:(010)82350740 邮编:100191

电子工程世界版权所有 京ICP证060456号 京ICP备10001474号 电信业务审批[2006]字第258号函 京公海网安备110108001534 Copyright © 2005-2016 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved