SIGMA-C推出可防止65nm以下掩膜故障的DFM工具

2006-01-19 15:45:29来源: 互联网

SIGMA-C软件公司推出首个微印刷仿真/图像验证工具,可将电子设计转移到印制晶圆上,以防止65nm下的掩膜故障。

该工具的仿真范围比传统印刷大200倍。它可在芯片设计过程中识别热点,芯片大小为20×20μm。SOLID+有现货提供,售价140,000美元,此外还提供其它SIGMA-C模块,如3D掩膜和3D晶圆。

编辑: 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/newproducts/packing/200601/91.html
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