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砷化镓半导体大厂稳懋技术参数险遭窃

2018-12-27
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日前,台湾桃园地检署接获检举,砷化镓半导体大厂稳懋的营业机密遭窃。经检方派员前往调查后,发现是维护稳懋内部生产设备公司的干部及员工涉案。最后,涉案人员在检方讯后收押一名干部,另一人交保。

  

本月12日,负责维护稳懋内部由芬兰 Picosun 公司所生产的原子层沉积(ALD)设备的台湾原晶公司,在进行例行的维护保养工作时,被指派前来进行维护工作的工程师,原本要趁机抄下机台内的生产参数,不过因为原本预定维护的机台内生产参数已经先行被稳懋所移除。

  

因此,该名工程师拿着稳懋给予的临时启动密码,去启动另一台不在排定维修行程中的设备,并拿出纸笔,准备抄下在其中的参数。过程中,被稳懋员工发现有异,整件事情才被揭发,而该名维护工程师也被移送警方侦办。

  

涉案工程师对窃密行为供认不讳,检方要求他交保释金6万元并限制离台出海。

  

之后,检方约询台湾原晶公司42岁庄姓副经理,认为庄某授意窃密,犯罪嫌疑重大,有逃亡、串证之虞,当庭逮捕,向法院申请羁押禁见获准。

  

检方21日再次发动搜索,兵分4路,约询3人,包括挂名副总经理的台湾原晶公司41岁林姓实际负责人,申请羁押禁见,但法官认为无羁押必要,无保释放林某。

  

稳懋在国内是生产砷化镓半导体的大厂,为生产用于脸部识别的垂直共振腔面射型雷射(VCSEL)半导体的重要厂商。

  

因为在生产过程中,需要使用到 ALD 设备来进行晶圆镀膜的过程,而镀膜过程必须不断进行脉冲、气体流量控制等工作,因此,稳懋就自行研发出控制制程过程中包括时间、温度等关键因素参数,以确保产品的品质,该项参数对稳懋在市场上的竞争力来说非常关键。


来源:中时电子报,如涉及版权问题,请及时联系删除。


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