光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用

2011-11-03 14:45:02来源: 互联网
      Intel公司内部一直在用微曝光设备(MET)对各种不同材料进行试验和评估,目的就是寻找一种能够同时满足高敏感度、高分辨率、低线宽粗糙度 (LWR)的光刻胶材料,最近终于取得了重大突破。

      在国际光学工程学会(SPIE)举行的光刻大会上,Intel就进行了这方面的展示,使用一种正型化学放大光刻胶(CAR)结合极紫 外底层,以及一种相应的漂洗剂,最终达成了22nm半节距(half pitch)分辨率,并满足敏感度和LWR要求。

      Intel据此骄傲地宣布,经过数十年的不懈努力,极紫外光刻技术已经从研究层面迈向实用,当然了,真正商用仍 尚需时日。

    

      蓝色部分即代表光刻胶

关键字:光刻胶  极紫外光刻

编辑:神话 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/mndz/2011/1103/article_12900.html
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