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ZESTRON将推出新款超声波清洗产品

2018-07-10来源: EEWORLD 关键字:ZESTRON  超声波清洗工艺

中性清洗液主要用于清洗各种金属表面的油污,如:工业机械,食品机械,金属加工的零部件、工具上面的润滑油、润滑脂、抛光蜡、拉伸油、压力油、金属加工液、研磨液等各种油污。中性清洗剂有水基型和非水基型,水基型就是可以用水进行稀释使用的清洗剂,非水基型主要分乳浊液型和挥发性型,直接喷涂或者超声波机使用。中型清洗剂使用时可以不需要佩戴手套进行操作,比如像深圳达斯特福瑞的油污清洗剂,能够清洗各种油污,并且水基配方,能用于清洗食品加工设备,能够在自然条件下生物降解,不具有腐蚀性。


全球领先的电子制造及半导体加工行业精密清洗产品和技术解决方案提供商ZESTRON,将出席于7月12日在美国俄亥俄州克利夫兰市Embassy Suites举行的SMTA Ohio Expo,并推出创新型产品HYDRON® SE 220。

 

HYDRON® SE 220 是一款单相、水基型中性清洗剂,专门用于浸没式和超声波清洗工艺。它能去除大多数半导体电子上的助焊剂残留,如:引线框架,分立器件,功率电子,功率LED,倒装芯片以及芯片粘结工艺中的CMOS。

 

ZESTRON专为SMT行业和功率电子行业的客户提供基于各种清洗技术的清洗液和清洗工艺。全球8个技术中心,拥有70多台国际领先清洗设备,ZESTRON致力于为客户寻找最优的清洗工艺及配套设备,帮助客户智选清洗设备。


关键字:ZESTRON  超声波清洗工艺

编辑:muyan 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/manufacture/2018/ic-news071026495.html
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