三星与意法半导体就FD-SOI达成合作协议

2014-05-15 10:17:13来源: EEWORLD

    意法半导体日前宣布与三星就28纳米FD- SOI工艺(全耗尽型SOI)达成合作,该举旨在延长28nm工艺生命周期,通过生产低功耗,低成本的处理器满足可穿戴及智能手机市场。

   

    根据五月十四日公布的协议,三星将从意法半导体获得28nm FD- SOI技术授权,从而使其可以为其他厂商代工,两家公司的设计流程互相兼容。

    三星可以为FD-SOI技术带来更稳定的产量和更多的客户,以便使FD-SOI技术更被市场认可。而意法半导体已经做好了量产的准备,唯一缺乏的就是客户。“意法半导体本身的产能和出货量可能无法支持FD-SOI技术的扩充,所以他们需要一个合作伙伴。”IHS 半导体制造研究总监Len Jelinek表示。

    理论上来说,传统28nm制程可以无缝迁移至FD-SOI,无需额外的再开发费用,因此这也是吸引众多客户转移至FD-SOI的重要原因之一。

    三星的目标是2015年初完成FD-SOI的全部认证,目前其已可以为客户提供PDK(工艺设计套件),未来该平台包括PDK、基础库、IP以及设计流程。IP包括标准单元、内存、模拟等。

    Jelinek表示,目前中国和台湾手机芯片供应商普遍由于价格问题,采用40nm制程为主要制程,而随着FD-SOI技术的到来,低成本的手机芯片有望也进入28nm时代。

    FD-SOI相对于传统Bulk CMOS工艺,晶体管速度提高30%,而且功耗更低,漏电流更低,工艺制程简单,用户可以无需任何成本进行工艺转型。

    Jelinek表示,尽管IBM一直在和GLOBALFOUNDRIES开发FD-SOI技术,但其受限于客户种类及产量,一直没有得到较大规模增长。

    Gartner的Freeman并不看好FD-SOI的推广会一帆风顺:“如果FD-SOI如此之好,为何Intel等其他企业不参与进来,而只有意法半导体一家公司在为其摇旗呐喊?”

    Freeman强调,晶体管的速度提高30%是器件工作最高频率时的比值,但没有器件会一直工作在最高频率。

    28nm是最佳时间窗口,特别是对于嵌入式可穿戴设备,预计未来很长一段时间由于价格等问题,28nm将一直成为主流处理器制程。

关键字:三星  意法半导体  半导体  达成

编辑:冀凯 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/manufacture/2014/0515/article_10085.html
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