Mentor Graphics CEO的中国之行

2013-09-18 11:03:57来源: EEWORLD

    2013年9月3日,EDA公司Mentor Graphics主办的Mentor Forum China 2013设计技术论坛北京站在北京永泰福朋喜来登酒店隆重举行,来自ARM、格罗方德、三星、台积电、中芯国际等诸多业界知名厂商的权威人士担任与会讲师,就技术议程分享及交流经验。此外,Mentor Grapgics的CEO Walden Rhine先生奉上了“The Big Squeeze”的精彩演讲,并接受了媒体专访,详尽地介绍了Mentor Graphics公司的近况与发展规划。

Mentor Grapgics公司2013业绩突出,成长迅速

    谈到Mentor Grapgics的近况, Rhine先生说,“EDA行业今年非常好,成长得最快的两部分一个是硬件仿真器,一个是IP,其中mentor的硬件仿真器Veloce尤其增长迅速,今年到现在的订单已经相当于去年一整年,去年比前年多一倍。” Mentor的Veloce为什么成长如此快?“我们提供很多独特的功能和优点,主要体现在四个方面:第一,上一代的Veloce1跟最接近的对手的最好机器差不多平手;我们新的Veloce2有如下特点:VirtuaLAB虚拟实验室,它是一个纯软件的环境,可以同时支持多种软件和硬件开发,相比于以前开发者用硬件适配器连接物理外设模拟器的状况,VirtuaLAB以软件的方式连接,随时改变远程遥控;第二, Test Bench加速器,对设计本身加速,有时候testbench很长,所以需要统一加速;第三,Veloce不仅提供硬件加速,我们对软件debug也可以加速。第四,Veloce最多可验证20亿逻辑门的设计方案,这些优点是其他人没有办法提供的。Mentor Graphics整个公司的业绩表现非常好,我们发布了二季度成绩,二季度订单同比增长70%,上半年订单增长85%,非常靓丽的结果。”

为“超越摩尔”所做的努力与创新

    近年来,越来越多的人提出“摩尔定律”即将寿终正寝的说法,诚然,随着工艺节点的缩小,半导体工艺与设备都面临着空前的挑战。然而, Rhine却认为,半导体产业的学习曲线,其实并不是摩尔定律讲的尺寸随时间降低,而是成本降低曲线,成本的降低会继续发生,从10nm 到7nm,其实尺寸并没有降低多少,如今半导体行业上下游真正面对的是缩小成本的压力,面对这一压力,Mentor能够做到的是:被行业给予厚望的EUV技术,同样需要软件做REP OPC,Mentor会提供相关的软件;成本降低可能牵扯到的3D IC,Cowos工艺,Mentor也提供了相应的EDA工具。

谈未来发展

    根据以往市场的经验,十亿美元对于半导体行业中的公司是个坎,但是Mentor公司对前景显然充满自信,“Mentor 2011年突破10亿,其实并没有特定的意义,我们更重视在现有EDA市场里继续成长,另外不断找到新的市场,Mentor新的市场,比如汽车和航空航天新的电子系统设计市场,非常成功。”Rhine说。而谈到公司未来的具体规划,“未来三到五年我们会专注7nm,比如可靠性分析,14nm以下会需要。热分析,SADT,多光照多封装,电子迁移移效应,也是我们未来几年开发的重点。除了半导体,我们未来会有1/3研发经费放在电子系统上面,比如汽车和航天航空上的标准化、汽车网络、Autosar(汽车开放系统架构)等,汽车航空航天已经很重要了,他们的产品从布线工具到汽车网路,信息娱乐,等等,还有新的设计标准Genivie Autosar,我们认为这块成长会快于传统。汽车电子化成长非常快。”

谈中国市场

    而谈到中国市场,Rhine先生显然表现得非常重视,据悉,Mentor公司在中国的EDA市场占有率为34%,其营收占其全球总营收的8%,尽管目前8%的比例还不算高,“但在这边的成长速度很快,比其他地方快一倍”Rhine说。
   


 

关键字:硬件加速器  Mentor.Graphics  Veloce2

编辑:冯超 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/manufacture/2013/0918/article_9434.html
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