ISS的参会者热辩IC制造业的未来命运 (2)

2010-01-14 10:26:32   来源:EE Times   

关键字: IC制造 摩尔定律

    ASML的总裁 Eric Meurice

    光刻可能使摩尔定律延伸到10纳米。

    只有很少公司对于光刻设备的昂贵没有耳语,但是实际上分担到每个晶体管上的光刻投资是减少的。EUV光刻设备今年开始供货。

    Piper Jaffray公司的分析师Gus Richard

    在金融危机下半导体产能的投资可能会延长,工业处于超级循环的中期。
 
    需求的推动者包括企业的PC升级及IT投资以及无线和视频的通讯环境改善,可能手机优于PC。

    未来不是技术限止摩尔定律,而是经济,或者成本。随着每个芯片上晶体管的数目增多,制造成本上升及设计公司的数量减少,竞争对手的数量减少,因此芯片制造商只能瞄准很大的产品市场机会。

    450mm硅片最终必须降低成本,因为随着摩尔定律的减缓和接近终点。推进450mm硅片进步的可能途径是各方在经济利益下加强合作。

    如果仅看到经济利益而合作,合作可能很少能够成功。

    东京电子副总裁Ken Sato

    有点担心半导体设备市场?预计今年设备市场将平穩,半导体投资与销售额之比将下降。

    只有处于全球首位的厂商才有可能获利,因此未来要加强研发的合作。

    随着设备的研发费用上升及价格提高会限止先进技术的设备发货减少。

    在新经济下,减少二氧化碳排放将是新的成本,由此推高设备价格的上涨。

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编辑:金继舒
本文引用地址: http://www.eeworld.com.cn/manufacture/2010/0114/article_2262.html
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