支持SMIC 65纳米工艺的低功耗参考流程

2009-07-21 09:45:41来源: 美通社 关键字:微捷码  芯片设计  65纳米工艺

      芯片设计解决方案供应商微捷码 (Magma(R)) 设计自动化有限公司(纳斯达克代码:LAVA)日前宣布,一款面向中芯国际集成电路制造有限公司(“中芯国际”,纽约证交所股份代号:SMI;香港联合交易所股票代码:981)65纳米工艺和低漏电工艺知识产权(IP)的先进低功耗IC实现参考流程正式面市。SMIC 的65纳米逻辑技术集更高性能和更低功耗与更小节点工艺才可提供的更高设计可能性和成本效率于一身。微捷码Talus(R) IC实现系统可为标准单元库、功耗管理工具包(PMK)以及存储器编译器等 SMIC 65纳米低漏电工艺知识产权(IP)提供完全支持;同时,结合Talus Power Pro的 Talus 实现流程通过贯穿整个流程地应用各类技术,能够在最大程度提高产品性能的同时将功耗降至最低。此外,Talus还能够有效缩短手机、个人媒体播放器、全球定位、数字电视、机项盒和移动存储设备等大范围消费性应用中所用IC的设计周期并降低其功耗。

      “微捷码对支持SMIC 65纳米工艺技术的先进低功耗IC实现参考流程的开发很好地兑现了我们两家公司为设计师提供可提高IC性能并降低IC功耗的工具及技术的承诺,”中芯国际设计服务部副总裁欧阳雄表示。

      “Talus是唯一让设计师能在单一环境中贯穿整个流程地解决功耗问题的流程,”微捷码设计实施业务部总经理Premal Buch表示。“通过使用 Talus,SMIC客户将能够获得具有最佳的高性能、低功耗、短设计周期组合的复杂设计。”

关键字:微捷码  芯片设计  65纳米工艺

编辑:金继舒 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/manufacture/2009/0721/article_871.html
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