IBM集团推出28nm工艺技术 采用高k金属栅

      尽管IC市场低迷，但硅代工市场正在回暖，IBM的“晶圆厂俱乐部（fab club）”近日正式推出基于高k金属栅的28nm工艺。

      该28nm技术正在认证中，是由IBM合作平台的成员联合开发，包括IBM、特许、GlobalFoundries、英飞凌、三星和意法。

      据悉，倍受期待的28nm工艺可从现有的32nm工艺无缝转移。该集团的32nm技术在去年发布，基于面向低功耗等应用的“栅优先（gate-first）”高k和金属栅技术。

      该集团的32nm和28nm技术有相似之处，28nm是32nm的微缩版。率先出炉的均为低功耗技术，支持7-9层金属、30nm栅长、铜互连、超低k介质。光刻技术采用193nm沉浸技术。