Altera与TSMC联合开发第一款异质混合3D IC测试平台

2012-03-24 10:52:59来源: EEWORLD

2012年3月23号,北京——Altera公司(Nasdaq: ALTR)与TSMC (TWSE: 2330, NYSE: TSM)今天宣布,使用TSMC的芯片-晶圆-基底 (CoWoS)集成工艺,联合开发了世界上第一款异质混合3D IC测试平台。异质混合3D IC是一种创新技术,在一个器件中可实现多种技术的堆叠,包括模拟电路、逻辑和存储器等,从而使业界超越了摩尔定律。TSMC的集成CoWoS工艺为半导体公司提供开发3D IC和端到端解决方案,包括前端制造工艺以及后端装配和测试解决方案。

Altera是第一家使用TSMC的CoWoS工艺,开发并完成异质混合测试平台的半导体公司。利用这一平台以及其他测试平台,Altera能够迅速测试其3D IC的功能和可靠性,以确保满足良率和性能目标。TSMC的CoWoS工艺结合Altera在硅片和知识产权(IP)方面的技术领先优势,为高速而具成本效益的3D IC产品开发和未来部署奠定了基础。

Altera在异质混合3D IC方面的理念包括,开发衍生器件支持用户根据他们的应用需求,使用各种硅片IP并能够相互匹配。Altera将充分发挥在FPGA技术上的领先优势,在FPGA中集成各种技术,包括,CPU、ASIC、ASSP,以及存储器和光器件等。Altera的3D IC支持用户采用灵活的FPGA来突出其在应用上的优势,同时提高系统性能,降低系统功耗和系统成本,减小外形封装

Altera全球运营和工程资深副总裁Bill Hata评论说:“我们与IMEC和SEMATECH等标准组织合作,使用TSMC前沿的CoWoS制造和装配工艺,这非常有利于我们在恰当的时间,为用户交付功能最适合的异质混合3D器件。在器件中实现异质混合3D功能使我们能够继续技术创新之路,保持领先优势,超越摩尔定律。”
TSMC北美地区总裁Rick Cassidy评论说:“与Altera的合作要追溯到20年前,那时,我们密切协作,开发了最前沿的制造工艺和半导体技术。与Altera合作开发下一代3D IC器件是一个很好的例子,展示两家公司如何可以共同努力推动半导体技术到另一个层面。

CoWoS是一种集成工艺技术,通过芯片-晶圆 (CoW)绑定工艺,将器件硅片芯片集成到晶圆片上。CoW芯片与基底直接连接(CoW-On-Substrate),形成最终的元器件。通过将器件硅片集成到初始的厚晶圆硅片上再完成制程工艺,可以避免因为加工而引发的翘变问题。
TSMC 计划提供CoWoS为一个一站式制造服务。

关键字:Altera  TSMC

编辑:eric 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/Test_and_measurement/2012/0324/article_4878.html
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