IMEC计划扩充研发能量 迈向18吋晶圆时代

2009-01-12 11:55:44来源: 电子工程专辑

      欧洲研究机构IMEC计划扩充其12吋旗舰晶圆厂以提升产能,并计划在2010年出开始提供试产用的超紫外光微影(extreme ultraviolet lithography)工具。该研究机构的总裁暨执行长Gilbert Declerck亦透露,IMEC位于比利时Leuven的办公据点与制造产能扩充,是为了迎接18吋晶圆时代所做的准备。

      Declerck补充表示,IMEC的8吋晶圆无尘室产能已经满载,12吋晶圆无尘室则接近满载。该机构持续扩充其尖端技术能力,除了是要追随摩尔定律(Moore's Law)朝更细微制程节点迈进,所正在进行的系统级封装(system-in-packaging)、3D芯片、微机电系统(MEMS)、生物科技与光电科技研究,也都需要更大的活动空间。

      他表示,如此的策略是由IMEC的董事会与该机构位于各地区的据点所共同决定的,IMEC近期会公布详细的扩充与投资计划。目前IMEC在荷兰Eindhoven的Holst Center以及台湾新竹,各有一个附属研发据点。

关键字:IMES  MEMS

编辑:冀凯 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/MEMS/2009/0112/article_249.html
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