SEMI公布半导体、FPD及MEMS制造领域8项新标准

2008-05-08 16:39:43来源: 半导体国际 关键字:SEMI  MEMS  FPD  半导体  制造领域  制造行业  CVD  Processe

  日前,SEMI公布了8项半导体FPDMEMS制造行业的新标准。新标准由来自设备与材料供应商、器件制造商以及其他加入SEMI国际标准计划的公司中的技术专家拟定而成. SEMI每年公布三次SEMI Standard,在过去的34年里发布的标准数已超过770项。

  SEMI国际标准部门主管Bettina Weiss表示,本次公布的8项标准中包括两项MEMS领域标准,今年春天也公布过三项MEMS标准。随着MEMS行业的发展及技术需求更加明朗化,相关行业标准的制定也日益重要。

  8项SEMI Standards包括:

  SEMI C62

  Guideline forPorogen Precursors Used in Low K CVD Processes(低K CVD工艺用多孔前驱体标准)

  SEMI C63

  Guideline for Organosilicate Precursors Used in Low K CVD Processes(低K CVD工艺用金属有机前驱体标准)

  SEMI E54.20

  Standard for Sensor/Actuator Networ

  k Communications for Ether AT(EtherCAT传感器/施动器网络通信标准

  SEMI E150

  Guide for Equipment Training Best Practices(设备培训最佳方案)

  SEMI F104

  Particle Test Method Guidelines for Evaluation of Components Used In

  Ultrapure Water and Liquid Chemical Distribution Systems(超纯水及液体化学试剂组分评估颗粒检测方法)

 

关键字:SEMI  MEMS  FPD  半导体  制造领域  制造行业  CVD  Processe

编辑:孙树宾 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/MEMS/2008/0508/article_127.html
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