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基于柔性石墨基板铟砷纳米线红外光探测器

2017-04-19来源: 科技日报 关键字:紫外光  探测器  铟砷纳米线

江汉大学曹元成教授团队与英国兰开斯特大学半导体中心首席研究员庄乾东博士团队合作研发新材料,可大幅提高红外探测灵敏度。4月10日,英国自然网站在线发表了他们撰写《基于柔性石墨基板铟砷纳米线红外光探测器》,该文将全文刊登在本月晚些时候出版的《自然》子刊《科学报道》。


曹元成介绍,铟砷纳米线作为高光电转换效率材料,是科学家们研究的主要对象,尤其是基于碳的铟砷一维纳米线,是高集成度光电子集成电路的研究热点。然而,上述材料在制备过程中,晶体结构容易产生缺陷,导致这类材料对光的响应效率低下或者无响应,特别是在中长红外波段方面尤其明显。


曹元成团队在砷化铟中掺入锑元素,合成一种新的锑掺杂砷化铟纳米线,大幅降低了铟砷纳米线的结构缺陷,同时通过锑元素的自我催化功能,显著提升新物质对红外光子的响应性。曹元成说,这种纳米线对光的响应波长,达到了5.1微米,从而涵盖整个中红外光谱,是目前最长的红外波响应纳米线,可应用于室温下高效工作的中波红外、长波红外光电探测器、红外发射器、高灵敏度光电晶体管等等,是制造各种光电子设备的理想材料。


关键字:紫外光  探测器  铟砷纳米线

编辑:张依敏 引用地址:http://www.eeworld.com.cn/DSP/article_201704194310.html
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pt type="text/javascript" src="//v3.jiathis.com/code/jia.js?uid=2113614" charset="utf-8">